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LCD制作工艺之：TFT-LCD阵列制程完全图解一片表面平滑、没有任何杂质的玻璃是制造TFT-LCD玻璃基板最主要的原料。在制作之前先将玻璃清洗干净，然后脱水甩干。 　　之后将玻璃放在真空室内，让金属上面的特殊气体产生等离子后，金属上的原子就会撞向玻璃，然后形成一层层的金属薄膜。 　　镀完金属薄膜后，还要在上面镀上一层不导电层与半导体层。在真空室内先将玻璃板加温，然后由连接直流高压的喷洒器喷洒特殊气体，让电子与气体产生等离子，经过化学反应后，玻璃上就形成了不导电层与半导体层。 薄膜形成后，要在玻璃上制作电晶体的图案。首先，要进入黄光室喷上感光极强的光阻液，然后套上光罩照射蓝紫光进行曝光，最后进入显影区喷杀显影液，这样就可以去除照光后的光阻，并使未被曝光的显影液定型。 　　　　光阻层定型后，可以用蚀刻进行湿式刻蚀将没有用的薄膜露出；也可以用等离子的化学反应进行干式蚀刻。蚀刻后再将留下的光阻以洗液去除，最后就产生电晶体所需要的电路图案了。 　　要形成可用的薄膜电晶体，需要重复清洗、镀膜、上光阻、曝光、显影、蚀刻、区光阻等过程，一般来说，要制造TFT-LCD需要重复5到7次。具体流程如下： 一、整体规划 二、成膜 三、清洗 四、涂光阻胶 五、曝光 六、显影 七、刻蚀 ? 八、去光阻胶 ? 九、GATE电极形成 十、SE岛状半导体 十一、SourceDrain电极形成 十二、Contact Hole形成 十三、画素电极形成 十四、实际画素情况