离子刻蚀机和激光无掩膜光刻机LW405价格.docxVIP

『润联网』 登录【润联网】查询价格登录“润联网” 可查找底价 离子刻蚀机和激光无掩膜光刻机LW405价格 标题:电子束刻蚀和台式原子层沉积系统参数库号：JX164067 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： 离子蚀刻机 20-M / NS-12适合大规模量产使用的离子刻蚀机基片尺寸直径 4英寸 X 12片 直径 18英寸 X 3片样品台直接冷却离子源20cm 考夫曼离子源电源可更换为国内电源离子蚀刻机主要优点：1. 干式制程的微细加工装置，使得在薄膜磁头，半导体元件， MR sensor 等领域的开发研究及量产得以广泛应用。2. 物理蚀刻的特性，无论使用什么材料都可以用来加工，所以各种领域都可以被广泛应用。3. 配置使用美国考夫曼公司原装制造的离子源。4. 射频角度可以任意调整，蚀刻可以根据需要做垂直，斜面等等加工形状。5. 基板直接加装在直接冷却装置上，所以可以在低温环境下蚀刻。6. 配置公转自转传输机构，使得被蚀刻物可以得到比较均匀平滑的表面。7. 机台设计使用自动化的操作流程，所以可以有非常友好的使用生产过程。标题:平板电容式反应离子刻蚀机RIESI591和微纳米压印设备价格库号：JX164068 价格：百度搜【润联网】查询主要技术参数： 离子蚀刻机 10-M / NS-5:适合小规模量产使用和实验室研究基片尺寸直径 6英寸 X 1片样品台