第四章有机聚硅氧新要点.pptVIP

②含Si-H键的硅氧烷缩合反应 ③通过有机过氧化物引发的交连反应 a. b. 生成的自由基，可进一步引发乙烯基及甲基交联反应，最终使 硅生胶硫化。 ④硅氢化加成硫化反应 催化剂 ≡SiCH＝CH2＋HSi≡ ≡SiCH2CH2Si≡ 区别于过氧化物硫化法，能够低温硫化或高温快速硫化，反应 中不产生分解产物，因而显示了良好的耐热性、密封性及尺寸稳定 性。 a.加成反应催化剂为 过渡金属及其化合物，通常采用铂催化剂。 CH3 ≡SiH＋CH2＝CHSi≡ ≡Si－CH－Si ≡Si－CH2CH2Si b.加成反应使硅橡胶或硅树脂硫化（固化），可以在较低温度及 较短时间内完成。 c.反应温度及硅氧烷中SiH/SiCH＝CH2比例，可在相当范围内调 节，加入催化剂后的适用期还可通过混入稳定剂而得经延长，厚层 制品硫化不起泡，且能快速均匀硫化。 d.温敏抑制剂控制反应温度和提高产品贮存稳定性作用 e.加成硫化型有机硅材料注射成型工艺 Pt ⑤多官能交联剂与活性硅氧烷缩合的反应 a.活性硅氧烷主要为羟基或烷氧基等硅官能团封端的 聚二甲基硅氧烷 b.交联剂：MeSi(OAc)3及MeSi(OR)3、MeSi(O－N＝ C－R/R )3等； c.催化剂主要有Sn、Ti的有机化合物等。 实例1： 实例2： HO(Me2SiO)nH＋2MeSi(OAc)3 → (AcO)2MeSiO(Me2SiO)nSiMe(OAc)2 实例3： Pt ≡SiH＋HOSi≡ → ≡SiOSi≡＋H2 d.在室温及无催化剂条件下，能够进行交联反应的基团：≡SiON＝CRR/、≡SiNRR/、≡SiNMeAc、≡SiOCMe＝CH2、≡SiONEt2、Si-NCO、SiOTiOC等。 ⑥高能辐射引发交联反应 γ或X射线 ≡Si－CH3 ≡SiCH2·＋≡Si·等 ≡Si－CH2·＋H2CSi≡ → ≡SiCH2CH2Si≡ ≡Si·＋·H2CSi≡ → ≡SiCH2Si≡ 辐射硫化不产生有害的副产物，因而得到硫化产物的稳定性及 耐热性，均优于过氧化苯甲酰硫化的产物。 ⑦UV低能辐射引发交联反应 a.紫外线属于低能射线范畴，但在光敏剂配合下，它仍可以引发含有一种或两种活性基团的硅氧烷发生交联反应。 b.硫化速度快，污染少，在光导纤维保护涂层、电子元件及隔离纸涂层等方面获得应用。 c.常用的活性基团：≡SiCH＝CH2、≡Si(CH2)SH、≡Si(CH2)2OCOCH＝CH2、 O ≡Si(CH2)3OCOCMe＝CH2、≡Si(CH2)3OCH2CH－CH2等。 d.实例 UV 光加成：≡Si(CH2)SH＋CH2＝CHSi≡ ≡Si(CH2)3SCH2CH2Si 　　 UV 光聚合：≡Si(CH2)SH＋CH2＝CHCOO(CH2)3Si≡