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材料物理第十二章
12低维结构材料 低维材料包括薄膜(涂层、层、箔)、纤维、 粉体颗粒。本章仅从物理学的角度讨论固体薄膜材料。 薄膜的定义: (1)薄膜是两个几何学平面所夹的物质,即在二维空间扩展,呈很薄的形态。 (2)薄膜的厚度、其尺寸范围从几个纳米到几十微米。 ①≤1μm的膜谓之薄膜; ②>1μm的膜谓之为厚膜。 由于薄膜厚度的尺寸很小,所以存在尺寸效应;又由于是二维系统,表面积与体积之比大,所以存在表面效应。 12.1薄膜的形成 原子团—外来原子在基片表面相遇结合在一起,称这种集合为原子团。 临界核—具有一定数量原子的原子团不断吸收新加入原子而稳定地长大,这种具有临界数量原子的原子团称为临界核。 12.1.1薄膜的形成过程 薄膜形成的顺序为: 具有一定能量的原子被吸附→形成小原子团→临界核→小岛→大岛→岛结合→沟道薄膜→连续薄膜。 薄膜形成过程可分四个阶段: 临界核的形成;岛的形成、长大与结合;沟道薄膜的形成;连续膜的形成。 12.1.1.1临界核的形成 从蒸发源蒸发出具有一定能量的气相原子入射到基片表面,其中有一部分能量较大而弹性反射回去;另一部分则吸附在基片表面上,即原子失去它垂直表面向外的动量而停留在表面上。在吸附的原子中有一小部分因能量稍大而再蒸发出去。由于只有停留在表面上的原子才有可能对薄膜的形成有贡献,为描述入射到基片表面原子可能停留在表面上的几率,引用粘附系数,它是停留在表面的原子数与入射原子数之比。这样,被 吸附在基片表面上的气相原子进行扩散迁移,当原子迁移到基片表面台阶或缺陷处,便容易停留在该处。在原子迁移过程中,可能遇到同类原子,相互碰撞而结合在一起。特别是在表面台阶和缺陷附近,遇到的几率更大,这样就形成原子团。这种原子团和其它吸附原子碰撞结合,或者释放一个单原子。这个过程反复进行,一旦原子团中的原子数超过某一临界值,原子团进一步与其它吸附原子碰撞结合,从而向着长大方向发展 而形成稳定的原子团。含有临界值原子数的原子团称为临界核,而稳定的原子团称为稳定的临界核。这就是临界核的形成。核形成过程若在均匀相中进行则称为均匀成核;若在非均匀相中进行则称为非均匀成核。 12.1.1.2岛的长大与结合 临界核所含原子数量和形状取决于薄膜原子与基片原子之间的键能,也受到制备条件的影响。通常有三种薄膜成长模式:岛状生长模式;层状生长模式和层岛状结合的模式。 (1)岛状阶段 临界稳定核形成后,再捕获其它吸附原子,或者与入射气相原子相结合使它进一步长大成为小岛。 根据透射电镜观察到的薄膜形成过程的照片,在核进一步长大变成小岛过程中,平行基片表面方向的生长速度大于垂直方向的生长速度。因此,临界核的长大主要是决定于基片表面上吸附原子的扩散迁移碰撞结合。 物理上,若从能量角度考虑,当核与吸附原子间的结合能大于吸附原子与基片的吸附能时,就可以形成三维的小岛。 (2)结合阶段 随着岛不断长大,岛间距离逐渐减小,最后相邻小岛可以互相结合并为一个大岛,这就是岛的结合。同时,根据TEM中原位观察,只要基片温度不是很低,岛可能在基片上移动,以至发生岛的结合。这里,基片温度对岛的结合起着重要的作用。 12.1.1.3沟道薄膜的形成 在岛结合以后,新岛进一步生长过程中,它的形状变为圆形的倾向减小。只是在新岛进一步 结合的地方才继续发生较大的变形。岛被拉长,连接成网结构的薄膜。在这种结构中遍布不规则的窄形沟道,其宽度为5~20nm。随着沉积的继续进行,在沟道中发生二次或三次成核。当核长大到和沟道边缘接触时,就连接到薄膜上。与此同时,在其它地方,沟道被桥接,并以类似液体的形式很快被填充。结果是大多数沟道很快被消除,薄膜变为连续的并含有很多不规则孔洞。在孔洞内再发生二次或三次成核,有些核直接结合到薄膜上,有些则形成二次小岛,岛长大结合到薄膜上。 12.1.1.4连续膜的形成 在沟道和孔洞消除以后,再入射到基片表面上的气相原子便直接吸附在薄膜上,通过接合而形成均匀连续膜。通常认为90%或者更多的基片表面被覆盖,仅有很窄的沟道形式的空洞。这时薄膜形成进入了连续膜的阶段。 在沟道和连续膜形成阶段,由于核或岛的结合都有类似液体的特点,这种特点可以使沟道和孔洞很快被填充而消失。这种效应的结果是消除高表面曲率区域,即沉积表面逐渐变得很平滑,使薄膜的总表面自由能达到最小。 1
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