柱状晶粒状态时的应变不均匀性.docVIP

柱状晶粒应变不均匀性柱状晶粒样品单个颗粒的局部变形应变测定体积基于每个面积的变化,应用于冷轧12%镍。变化应变相关联。2005年学报Materialia Inc .)公布的爱思唯尔有限公司保留所有权利。在为了保持连续性, 即使条件下变形第一次变形时材料的应力和应变分布可能不均匀(如看到Ref。[1])在早期研究[2、3]。。最近拉伯.[4]测量变形应变使用一种新颖的摄影测量方法。他们发现当施加压力。这些系统。本文的目的是介绍另一种方法测定多晶样品的体积应变变化。。可能影响晶粒取向的应变分布和晶粒尺寸进行了讨论。镍样品柱状晶粒结构和平均粒径(垂直于柱状方向)600 m。三片大小30×10?2 mm3垂直于柱状增长方向(图1)。第一片。第二片(立即采取低于第一片)是冷轧(卷直径= 300毫米)减少12%(真应变= 0.127),纵向方向的柱状压缩方向滚动。变形后,表面地揭示了季度层厚度。对样本,滚动平面(轧制方向形成,RD和横向方向,TD)用硫酸电解法抛光的解决方案。第三部分是左未变形的和被切割在横向平面(由TD和正常的方向,ND),揭示了柱状晶粒结构。粒结构的(未变形的)特征在面积10?10平方毫米(ECC)使用电子对比成像。20 ECC显微图的是组装和绘图计划用来制造一个完整的点阵式结构示意图(图2)。测量的点阵式素描使用图像分析软件包图像工具3.0.1随后,一个电子背散射模式(不