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4-3 晶核的形成 假定晶核? 在固态基底W 上形成,并且? 是被W平面所 截的球冠。显然,晶核? 形成 时,引起的体系表面能的变化 ?GS应为: (? 为? 与W的接触角,称润湿角) 故: 非均匀形核示意图 (?为晶核, L为液相,W为固态基底) 4-3 晶核的形成 界面面积 (球冠表面积)和 界面面积 (球冠底圆面积)可分别表示为: 可得: 晶核? 的体积(球冠体积)为: 4-3 晶核的形成 形成? 晶核所引起的体积自由能变化为: 形成? 晶核时体系总的自由能变化为: 显然: 同样可求出非均匀形核时的临界晶核半径 r*: 显然,非均匀形核时的临界晶核半径与均匀形核时的 临界晶核半径式相同 。 非均匀形核的形核功为: 4-3 晶核的形成 即有: (1)当? = 0?时,则 ,即为完全润湿的情况,非均 匀形核时无需形核功,可以直接长大,称为外延生长。 (2)当? = 180?时,则 ,晶核和基底完全不润 湿,相当于均匀形核,即基底对形核不起作用。 (3)当0? ? 180?时, , , 故非均匀形核时所需的过冷度较均匀形核时要小,非均匀形 核相对于均匀形核更易于进行。 4-3 晶核的形成 (4)晶核与基底之间的界面能??W 越小,? 角愈小,形核 功也愈小,形核时所需的过冷度愈小,非均匀形核愈容易。 ??W 的大小取决于晶核与基底之间的点阵类型和晶格常 数的相似性。例如,若密排六方晶体粒子的 {0001}面与面心 立方晶核的 {111} 面相接触,且其晶格常数差别不大,则界 面能一定很小。这种规律称为“结构相似,尺寸相应”原理。 一般地,符合这种匹配条件的固态粒子即称为“活性粒子”, 其可作为非均匀形核的有效基底。 4-3 晶核的形成 (5)基底的表面形状对非均 匀形核也有很大影响:若基底表 面不是平面而是一曲面,当? 角 和晶核的临界半径相同时,在表 面为凹面的基底上形成的晶核体 积最小,在平面的基底上形成的居中,而在凸面的基底上形 成的晶核体积较大。 显然,基底表面为凹面时对形核的促进作用效能更高。 4-3 晶核的形成 基底表面形状对形核的影响 思考题: 1. 何谓均匀形核和非均匀形核? 2. 纯金属凝固时,除了需要结构起伏外,为 何还需要能量起伏? 3. 指出纯金属凝固所需满足的基本条件。 4-3 晶核的形成 一、基本概念 晶核生长:就是液相中的原子向晶体表面转移的过程, 即液?固界面向液相移动的过程。 动态过冷度:液一固界面向液相移动时所需的过冷度称 为动态过冷度(?Tk = Tm -Ti)。 只有当液?固界面温度Ti 低于理论凝固温度Tm,即有一 定的过冷度时,液?固界面才能向液相移动,晶体(核)生 长才能进行。 4-4 晶核的生长 晶体的生长涉及到生长方式(决定着晶体长大速度) 和生长形态(反映出凝固后晶体的性质)。 晶体生长的方式和形态取决于液相中的原子转移到晶 体表面的方式,它与液?固界面的微观结构和液?固界面前 沿液相中的温度分布有关。 4-4 晶核的生长 4-4 晶核的生长 二、液固界面的微观结构 从原子尺度划分,液?固界面的微观结构有两种类型: 光滑界面和粗糙界面。 一般地,对于金属和某些低熔化熵的有机化合物,其液 ?固界面为粗糙界面;对于多数无机化合物以及亚金属Bi、 Sb、Ga、As和半导体Ge、Si等,其液?固界面为光滑界面。 (一)光滑界面及其特征 光滑界面:液?固相界面上的原子排列成平整的原子平 面,液、固两相截然分开。 宏观上,光滑界面往往由不同位向的小平面(为原子 密排面)所组成,故呈折线状。 4-4 晶核的生长 光滑界面微观结构示意图 光滑界面宏观结构示意图 (二)粗糙界面及其特征 粗糙界面:液?固相界面上的原子排列高低不平,存 在几个原子层厚度的过渡层,在过渡层中约有半数的位置 被固相原子所占据
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