高纯度电子特种气体市场开发前景——硅烷SiH4、磷烷PH3、砷烷AsH3.docVIP

高纯度电子特种气体市场开发前景——硅烷SiH4、磷烷PH3、砷烷AsH3 高纯度特种气体（硅烷SiH4、磷烷PH3、砷烷AsH3）广泛应用于电子行业、太阳能电池、移动通讯、汽车导航、航空航天、军事工业等方面。目前我国只能生产纯度在3N~4N标准的特种气体，而在许多重要领域，比如：国家战备武器研究和神州五号运载火箭上的控制系统的电子原器件的制造，以及卫星上使用的太阳能电池的制造等方面所急需的6N标准的气体全部依靠进口。目前世界上只有美国、俄罗斯等发达国家才能生产。美国的SOLKATRONIC公司经销该种气体，我国进口该种气体常常因国际形势紧张和变化而受到阻碍，因此直接制约了上述相关领域的发展。白俄罗斯无线电材料研究所在前苏联时期承担了研制高纯度特种气体的任务，具备研制和生产这种气体的能力。经过磋商，白方愿同我方合作，提供技术共同开发该项产品。本项目主要利用该所研制的烷类气体深度提纯技术，在中国建立高纯度特种气体的研究基地及产业化基地，解决我国急需的高纯气体材料的国产化问题，使硅烷、磷烷、砷烷气体的纯度达到6N（99.9999%）。该项目在国内属首创，技术指标达到国际同行业先进水平，填补我国高纯度特气生产空白，彻底改变我国电子特气长期受制于人的局面。二、? ??国内外现状中国的超纯度特种气体研制始于1983年，当时从事这一工作的单位有北京氧气厂、浙江大学、大连光明化学所和保定红星单晶硅厂，.研究的内容为超纯气体和烷类气体。“七五”期间，国家科委委托电子部、化工部牵头，组织电子气体攻关招标会，中标的单位南京特种气体厂(公司)、中科院沈阳金属研究所、大连光明所、核工业部理化研究院和南京大学。攻关项目主要有烷类气体、化学气体刻蚀气体、高熔点氟化物金属气体、金属有机化合物(“MO”源)、气瓶处理技术和配套器件的研制，涉及气体品种20多种。1991年，国家又在“八五”科技攻关项目—集成电路用关键材料研究课题下，又专设了“电子特种气体研究”的子课题，开始了新一**关。我国对于超纯度特种气体的研究前后经历了20多年的努力，但收效不大，虽然开发出了一批特种气体，但质量一般，基本满足2~3micro;m技术(即中小规模集成电路用的气体)，而超大(VLSI)和特大(ULSI)?规模集成电路的用气仍然不能生产，尤其是纯度超过6N的气体还得全部依靠进口来解决。从国外情况看，由于美国在技术上封锁、在产品销售上限制，我国无法将该项技术引入国内。 国内外水平对比表  品种 国内现有水平 国际先进水平 实施计划水平 硅 烷 3.0~4.0N 6.0N 6.0N 磷 烷 4.0~4.5N 6.0N 6.0N 砷?烷 3.0~4.0N 6.0N 6.0N 采用先进的低温精馏、吸附干燥、过滤除尘以及高纯气体灌装技术及设备，生产出适合我国各行业需要的6N高纯气体。 2、技术关键A、引进进口气体提纯关键技术和设备。B、建立分析方法、完善分析设备。C、完善辅助设备，如：超纯灌装设备、钢瓶处理系统。?砷烷提纯工艺流程图如下： 3、?技术指标产品的性能指标与国外对比：表1硅烷性能比较 名称 含量 美国  标准气体公司 白俄罗斯 备注 组分 （本项目达到的标准） 硅烷 Silane 99.9999% 99.9999% 　 　 Nitrogen 0.1ppm 0.1ppm 　 　 Oxygen 0.1ppm 0.09ppm * 　 Total Hydrocarbons 0.1ppm 0.1ppm 　 　 Carbon Dioxide 0.1ppm 0.1ppm 　 　 Carbon Monoxide 0.1ppm 0.1ppm 　 　 Water 0.1ppm 0.05ppm * 　 Argon 0.1ppm 0.1ppm 　 　 Chlorosilanes 0.1ppm 0.1ppm 　 　 Helium 10ppm 10ppm 　 　 Hydrogen 20ppm 20ppm 　 　 Disilane 0.1ppm 0.1ppm 　 　 Siloxanes 0.1ppm 0.1ppm 　 　 Resistivity 10,000 ohm/cm 10,000 ohm/cm 　 　 Particle 10 pcs/cu.ft0.1 micro;m 2 pcs/cu.ft0.1 micro;m * 表2磷烷性能比较 名称 含量 美国 白俄罗斯 备注 组分 SOLKATRONIC公司 （本项目达到的标准）