旋干机介绍.docVIP

一、产品简介 SRD旋转冲洗甩干机是根据国际、国内半导体产业的发展和市场需求，研究开发的旋转冲洗甩干设备。该机型具有高洁净度旋转冲洗甩干功能。本系列机型可以适应从φ25mm 到φ200mm 直径（包括方形和其它特殊形状）片式材料的旋转冲洗甩干工艺。可用于半导体晶片、砷化镓材料、掩膜版、太阳能电池基片、蓝宝石、铌酸锂、光学镜片、磁盘、光盘、医用玻璃基片等类似材料的高洁净度冲洗甩干。是半导体湿法清洗工艺中必不可少的主流设备之一。 设备利用旋转离心力的方式进行去离子水冲洗、热氮气烘干，DI水电阻率监控、氮气加温、防静电控制以及系统洁净化处理来达到高洁净度的片子清洗效果。 设备由主机、相互独立的工作腔体、片架载体、去离子水、氮气控制系统，以及PLC控制和操作系统组成。 1、国内外概况 世界第一台旋转冲洗甩干机1979年由美国SEMITOOL公司推出。国外主要生产厂家有SEMITOOL和Verteq公司。SEMITOOL的STI-S系列机型代表了该类设备的最高水平,最大可适应12英寸规格工艺流片。近几年国外该类设备朝着整合清洗功能，采纳新技术，新工艺的方向发展。其第二代、第三代设备国内尚无生产出来。 国内在该技术领域与国外相比差距十分明显。主要是对该设备的研究和重视不够。当然也存在配套能力和加工工艺方面的问题。 双腔旋转冲洗甩干机系统采用双工位层叠、积木式组合结构，每个工位可独立运行互不干扰。能实现包括旋转冲洗、热氮气烘干、电阻率监控、防静电控制、故障显示报警、系统洁净化处理在内的全自动工艺处理过程。整机由以下八个基本功能单元组成 系统结构组成示意图 2、主要达到的技术性能指标 1．电源及电气控制安全性技术要求 1.1 电压：AC220V±AC22V 1.2 频率：50Hz±1Hz 1.3 功率：3kW 1.4 整机绝缘电阻大于2MΩ（用1000V兆欧表测） 1.5 各功能开关、按键、安全互锁功能、紧急开关应使用灵活、动作可靠。 1.6 设备表面平整、光滑、色调一致。设备内、外各种安全、警告标志齐全。 1.7 在设备接地标志处可靠接地。 2．使用氮气的相关安全性技术要求 2.1 使用氮气压力： 0.23～0.28MPa（Max） 2.2 使用氮气耗量： 200～280L/min 单腔 2.3 氮气接口管径： OD 3/8 英寸 红色标记 2.4 氮气过滤精度： ≤0.1μm 或按用户要求配置 2.5 设备用氮气接入处减压阀位置应有明显禁调标志，严禁设备在高于氮气设定压力时操作运行。（提示用户按要求配置） 2.6 未经过洁净化处理的氮气管路严禁直接接入设备使用，避免对设备造成污染 3．去离子水的相关安全性技术要求 3.1 使用去离子水压力： 0.25～0.3MPa（推荐） 3.2 使用去离子水耗量： 8～12L/min 单腔 3.3 去离子水接口管径： OD 3/8 英寸 蓝色标记 3.4 设备排水口管径： OD 32mm UPVC管 3.5 未安装过滤器或未经过洁净化处理的去离子水管路严禁直接接入设备使用，避免对设备造成污染。 生产厂家 本公司 SEMITOOL VERTEQ 型号 双腔型 STI-8700S 1800-55M 最大加工直径mm 工作腔数量 个 旋转速度r/min 氮气过滤精度μm 电阻率监控 防静电控制 氮气密封 氮气烘干 腔体表面处理 驱动电机 管件 控制器 显示及程序 200 2 100-2600 0．003 有 有 有 有 电化学抛光 无刷电机 高纯管件 PLC可编程控制 彩色液晶汉显＋99工艺菜单 200 2 300-2800 0．003 有 有 有 有 电化学抛光 无刷电机 高纯管件 单片微处理器 数码管 手动 200 2 300-2800 0．003 有 有 有 有 电化学抛光 无刷电机 高纯管件 PLC可编程控制 液晶＋99种工艺菜单 表1 双腔旋转冲洗甩干机与国外同类机型对比 3、主要技术特点 1）以国外最具代表性的SEMITOOL公司STI机型为参考机型，融合国外其它主要厂家的控制技术，尽可能采用和参考其已成熟的技术结构、技术途径和技术实施方法。 2）对一些关键技术和外购件，寻求技术突破和解决加工工艺。关键配套与国内有实力的厂家联合研制，技术基础立足国内，设备关键技术和加工制件百分之百国产化。 3）一些关键配套件、外购件引进国外专业厂家产品，保证了设备的技术水平、精度、稳定性和可靠性。 4）设计、加工、装配、调试等工作完全具有可重复性和再现性，又可扩展升级改造，目前已初步形成系列化产品。 二、关键技术的解决途径 先进的旋转冲洗甩干设备是集流体、流体控制、精密机械、洁净化处理、新材料、计算机控制、半导体工艺技术为一体的综合系统技