光刻工艺培训2013.ppt

按照指令要求将检验合格的玻璃正确装篮、上线。 ITO表面电阻值要求 规格（ITO表面电阻值） （Ω/□） ITO面电阻范围 （Ω/□） STN15 9～13 STN20 13～20 STN30 20～28 STN60 35～60 TN180 60～80 HTN40～60 40～60 外观质量标准 检验项目 标准 玻璃表面划伤 宽：＞0.1mm 不允许 宽：≤0.1mm 多条总累计长度≤20mm，单条长度≤5mm ITO膜面划伤 不允许 粘附物 不允许有不溶于水或碱性清洗液的粘附物（油污、水渍） 裂痕 不允许 玻璃突起 不允许 崩边 a?b?c＜2.0?1.5?(1/2d) （d为玻璃厚度） 操作要求1 ITO玻璃连同包装应存放在干燥、阴凉、清洁的环境中，温度28度以下，湿度不大于70%RH为宜2拿取玻璃时应使用无尘手套，应用双手“夹持”玻璃的两边，严禁裸手接触玻璃表面；3拿取玻璃时应使用无尘手套，应用双手“夹持”玻璃的两边，严禁裸手接触玻璃表面；4拿取玻璃时应使用无尘手套，应用双手“夹持”玻璃的两边，严禁裸手接触玻璃表面； 玻璃经过碱清洗、超声清洗，兆声清洗、纯水喷淋清洗，然后经过风刀吹干，IR、UV照射 清洗的超声波应用原理是由超声波发生器发出的高频振荡信号，通过换能器转换成高频机械振荡而传播到介质，清洗溶剂中超声波在清洗液中疏密相间的向前辐射，使液体流动而产生数以万计的微小气泡，存在于液体中的微小气泡（空化核）在声场的作用下振动，当声压达到一定值时，气泡迅速增长，然后突然闭合，在气泡闭合时产生冲击波，在其周围产生上千个大气压力，破坏不溶性污物而使它们分散于清洗液中，当团体粒子被油污裹着而粘附在清洗件表面时，油被乳化，固体粒子即脱离，从而达到清洗件表面净化的目的。 红外线能穿透到原子、分子的间隙，会使原子、分子的振动加快、间距拉大，即增加热运动能量，从宏观上看，物质在融化、在沸腾、在汽化、这就是红外线的热效应。 由短波长紫外线及其产生的臭氧对其产品的表面进行超精密清洗或改善其表面的接着性、附着性的干式光表面处理技术 兆声波清洗不仅保存了超声波清洗的优点，而且克服了它的不足。兆声波清洗的机理是由高频(850kHz)振效应并结合化学清洗剂的化学反应对硅片进行清洗的。在清洗时，由换能器发出波长为1μm频率为0.8兆赫的高能声波。溶液分子在这种声波的推动下作加速运动，最大瞬时速度可达到30cm/s。高速的流体波连续冲击晶片表面,使硅片表面附着的污染物的细小微粒被强制除去并进入到清洗液中。 兆声波清洗抛光片可去掉晶片表面上小于0.2μm的粒子,起到超声波起不到的作用。这种方法能同时起到机械擦片和化学清洗两种方法的作用。 通过涂胶辊把光刻胶涂覆在玻璃表面。滴液量、压入量、间隙必须严格遵守工艺条件，以达到胶膜均匀、厚度适当、无裂纹、气泡。 关键控制参数 胶粘度、压入量、间隙，前清洗工艺、红外紫外效果、玻璃表面状态（脏、突起） 前烘的目标:除去光刻胶中的溶剂。 前烘的作用:1.提高了粘附性; 2.提升了玻璃上光刻胶的均匀性,在刻蚀中得到了更好的线宽控制; 典型的前烘条件:先在热板上90度到100度烘30秒,结下来是在冷板上降温的步骤,以得到光刻胶一致特性的玻璃温度控制。 1.光刻胶膜发黏并易受颗粒沾污： 2.光刻胶膜的内在应力将导致粘附性问题; 3.由于溶剂含量过高导致在显影时由于溶解差异,而很难区分曝光和未曝光的光刻胶; 4.光刻胶散发的气体(由于曝光时的热量)可能沾污光学系统的透镜; 在涂好光刻胶的玻璃表面覆盖掩摸版，用汞灯产生的紫外光进行选择性照射，使受照部分的光刻胶发生光化学反应，改变了这部分胶膜在显影液中的溶解度，显影后光刻胶膜就显现出与掩摸版相对应的图形。 质量指标: 线宽分辨率 套准精度 颗粒和缺陷 光刻掩膜版与光刻胶膜的接触情况 曝光光线的平行度 光的衍射及反射效应 光刻胶膜的质量和光刻胶膜的厚度 曝光时间的确定 掩膜版的分辨率和质量 显影：用化学显影液溶解由曝光造成的光刻胶的可溶解区域就是光刻胶显影，其主要目的是把掩膜版图形准确复制到光刻胶中。 显影的三个主要类型的问题： 显影不足：显影不足的线条比正常线条要宽并且在侧面有斜坡； 不完全显影：不完全显影在玻璃上留下应该在显影过程去掉的剩余光刻胶； 和过显影：过显影除去了太多的光刻胶，引起图形变窄和拙劣的外形。 X X X ? 显影 不足 不完全 显影 正确 显影 过显影 光刻胶 衬底 曝光的光刻胶溶解在显影液中. 未曝光的正胶 交联光刻胶 显影温度:显影液最适宜的温度是25 ℃，其温度确定后，误差必须控制在±2 ℃以内。 显影时间 显影液量 搬运速度 当量浓度（N）：是一个浓度单位