中国真空学会第七届三次理事会暨2012学术年会.docVIP

中国真空学会2012学术年会 征文通知（第一轮） 为了进一步加强真空科技各分支学科领域间的学术交流，提高专业水平和科技创新能力，促进我国真空事业稳健发展，中国真空学会2012学术年会拟于2012年9月21日－24日在甘肃省兰州市召开。大会将设一个主会场和六个分会场。（六个分会场分别是：1、真空科技与工程；2、表面科学与应用；3、薄膜科学与技术；4、纳米科学与技术；5、电子材料与器件、等离子体技术；6、显示技术等）。会议期间将同时举行中国真空学会第七届三次理事会。 热烈欢迎全体理事、会员、广大科技工作者、企业代表积极参加会议并踊跃投稿。学术交流将采取多种形式：大会特邀报告，分会邀请报告，分会口头报告，论文张贴，以及真空产品推介等。会上，会议期间将颁发2012年度“中国真空科技成就奖”和“中国真空科技青年创新奖”，并评选学生优秀论文。希望各专委会和各地方真空学会推荐分会特邀报告的人员和内容，请在5月1日前将名单和报告题目报送学会办公室。 征文范围及分类编号： 12-01. 真空科学与技术、真空工程； 12-02. 表面科学与技术； 12-03. 应用表面科学与技术； 12-04. 纳米科学与技术； 12-05. 纳米生物与生物界面； 12-06. 薄膜生长机理、制备技术和应用； 12-07. 真空获得与测量、质谱分析与检漏； 12-08. 真空冶金与表面工程； 12-09.