第三章半导体中载流子的统计分布导论.ppt

第三章习题 4. 本征激发区 （高温） n0 ?? ND, p0 ?? NA n型Si中电子浓度n与温度T的关系： 杂质离化区 过渡区 本征激发区 ni ND 0 ni T n n 型硅中电子浓度与温度关系 n 200 400 600 P型半导体的载流子浓度和费米能级 1. 低温弱电离区 4. 本征激发区 T↑，EF↑ 3. 过渡区 po=NA，no=ni2/NA 2. 饱和电离区 计算掺杂半导体的载流子浓度时，需首先考虑属于何种温区。 一般：T：300K左右，且掺杂浓度＞＞ni 属于饱和电离区 注意： N型：no=ND—NA 或 no=ND P型：po=NA—ND 或 po=NA 三、工作温区（强电离区）的确定 1.??已知工作温度(Tmin—Tmax)确定掺杂范围(ND)min—(ND)max ?由Tmax确定(ND)min ● 根据Tmax，由lnni ~1/T曲线查出 Tmax对应的ni； ● 根据ni的公式计算出Tmax所对应的ni； 要达到全电离，要求ED＞＞EF 由Tmin确定(ND)max 在强电离区： 一般：D－= 0.1，达到全电离。 室温时：NC=2.8×1019/cm3，△ED=0.044ev (ND)max=3×1017/cm3 (ND)min=10ni(500K) 查表得：T=500K时，ni=5×1014/cm