离子膜除碘实例1.doc

离子膜除碘实例 摘要 本发明公开了一种离子膜法烧碱生产工艺不同阶段盐水中微量碘的净化方法。针对离子膜法烧碱不同工序阶段的盐水，包括原盐水、一次精盐水、二次精盐水、脱氯氮盐水及其混合卤水，该法在酸性条件下，使用氧化剂氧化原盐水中的I-，或使用还原剂还原一次或二次精盐水中的IO3-或IO4-，通过控制pH和电位，使碘转化为I2或I3-，然后使用离子交换树脂吸附。通过对原盐水、一次或二次精盐水进行单独或联合除碘处理，可使离子膜烧碱工艺盐水中碘的含量小于0.2 mg/L，完全达到离子膜法烧碱生产的要求。本方法成本低廉、所需装置结构及操作简单，且不会对离子膜法烧碱工艺带入风险成分，可广泛应用制盐厂和离子膜法烧碱厂的高含碘盐水中碘的脱除。 权 利 要 求 书 1. 离子膜法烧碱工艺中碘的净化方法，其特征在于：在酸性条件下，通过氧化剂氧化原盐水中的I-，或还原剂还原一次或二次精盐水中的IO3-或IO4-，使碘转化为I2或I3-，然后使用离子交换树脂吸附。 2. 如权利要求1所述的离子膜法烧碱工艺中碘的净化方法，其特征在于：盐水酸化所用的酸为盐酸、硫酸或硝酸中的一种或多种，优选地，所使用的酸为盐酸。原盐水、一次或二次精盐水经酸化调节pH为1.0~3.0。 3. 如权利要求1所述的离子膜法烧碱工艺中碘的净化方法，其特征在于：氧化原盐水中I-所使用的氧化剂为氯气、氯水、氯酸钠、次氯酸钠、双氧水或离子膜电解槽流出的淡盐水中的一种或几种。 4. 如权利要求1所述的离子膜法烧碱工艺中碘的净化方法，其特征在于：还原一次或二次精盐水中IO3-或IO4-所使用的还原剂为硫代硫酸钠、亚硫酸钠、亚硫酸、二氧化硫中的一种或几种。 5. 如权利要求1所述的离子膜法烧碱工艺中碘的净化方法，其特征在于：氧化原盐水中的I-，以及还原一次或二次精盐水中的IO3-或IO4-，盐水电位控制为450 ~ 600 mV。 6. 如权利要求1所述的离子膜法烧碱工艺中碘的净化方法，其特征在于：吸附碘所用的离子交换树脂为Ambersep 9000OH/900P、D201、D301、201×7、717、D235强碱性阴离子树脂中的一种或几种。 7. 如权利要求1所述的离子膜法烧碱工艺中碘的净化方法，其特征在于：可采用对原盐水、一次或二次精盐水单独或联合运行方式实现离子膜烧碱工艺盐水中碘的脱除。 说 明 书 离子膜烧碱生产工艺盐水中碘的净化方法 技术领域 本发明涉及离子膜法烧碱生产工艺盐水中碘的净化方法，特别是涉及一种基于离子交换树脂吸附的原盐水、一次精盐水、二次精盐水、脱氯氮盐水及其混合卤水中碘的脱除方法。 背景技术 近年来，随着我国经济的快速发展，氯碱行业产能扩张加速。烧碱的生产方法主要有隔膜法和离子膜法，隔膜法烧碱工艺因高能耗、质量差、并产生环境污染等问题，根据国家发改委《产业结构调整指导目录（2011本）》中的要求，到2015年末，将全部淘汰隔膜法烧碱生产装置。与隔膜法相比，离子膜法能耗低、污染小，且烧碱产品质量好，是目前最先进的烧碱生产方法。但是，离子膜法对电解用盐水的质量要求较高，当其中碘的含量大于0.2 mg/L时，一旦进入离子膜碱性环境，碘可被氧化为高碘酸盐，并生成难溶性沉淀，导致电流效率降低，离子膜的使用寿命大大降低。 离子膜法烧碱的原料主要有工业盐、地下卤水等，原料中通常含有一定浓度的碘。对于以碘含量较高的卤水或原盐进行氯碱生产的企业，生产成本将因离子膜使用寿命的快速降低和能耗的急剧增加而加大。而对于以碘含量相对较低的原料进行生产的企业，由于生产过程中淡盐水的循环使用，长期运行将会形成碘的富集，。这个问题尚未得到很好的解决国内氯碱生产企业的盐水精制系统中的除碘装置，盐水中的碘不在控制指标内~80°C空气、N2或CO2等进行鼓泡方式吹出碘的方法。值得注意的是，针对盐水中微量碘的净化，该法能耗较高、除碘效率较差。 针对离子膜烧碱原卤水中碘的净化，CN1807245A公开了一种以H2O2、NaClO、NaClO3、Cl2等为氧化剂，然后用活性炭、分子筛、白土等为吸附剂的净化方法。值得注意的是，尽管其实施例中对碘含量为0.1~5 mg/L的原卤水进行吸附处理后，碘含量可降至0.05 mg/L以下，但并未对卤水处理量进行描述。此外，活性炭、分子筛等吸附剂不易实现再生重复使用，其额外添加H2O2、NaClO、NaClO3等氧化剂成本较高，且无法实现对离子膜法烧碱工艺系统内以高价态存在的碘进行脱除，经长期循环仍造成碘含量超标。 创新 为解决离子膜法烧碱工艺盐水中碘的问题，使碘含量低于0.2 mg/L，本发明提供了一种基于离子交换吸附净化离子膜烧碱原盐水、一次精盐水、二次精盐水、脱氯氮盐水中微量碘的方法，对原盐