第1章薄膜光学特性计算基础解说.pptVIP

光学薄膜技术Optical thin films and Technology 联系方式 电话： QQ:9 E-mail：baobaoldd@126.com 主要内容 绪论 第一章：光学薄膜特性的理论基础 第二章：光学薄膜系统的设计（介质膜系及其应用） 第三章: 光学薄膜制备技术 第四章：光学薄膜制备工艺 第五章: 薄膜材料及其性质 第六章：光学薄膜特性测试 本课程的内容构架 考试方式 考试 平时分：30% 卷面分：70% 什么是光学薄膜？ 什么是光学薄膜技术？ 光学薄膜的发展史？ 光学薄膜的种类？ 光学薄膜应用？ 3. 光学薄膜的发展史 1、五光十色的肥皂泡、水面上色彩斑斓的油膜、两玻璃片间色彩鲜明的光环； 2、早在17世纪，这些现象就引起了许多自然科学家的注意，他们各自提出了一些初步解释，但均不令人满意； 3、1801年托马斯.杨干涉实验结果及菲涅尔对此进一步发扬光大，上述现象才彻底为人们弄清，物理光学的基础从此建立起来。 薄膜光学的物理依据就是光的干涉。 4、1827年，夫琅和费将抛光的平面玻璃一半放在浓硫酸或浓硝酸中腐蚀、清洗干净后发现，经酸腐蚀的表面所反射的光强远低于另一半表面的反射光强。5、1886年瑞利在英国皇家协会报告说：“失泽”的冕玻璃平板，其反射比刚抛光更低原因是玻璃形成了薄薄的一层膜。 6、1891年丹尼斯.泰勒报到，在使用几年后的普通物镜的火石玻璃透镜上“失泽”现象十分明显。 7、1930年出现了油扩散—机械泵抽气系统，可以获得高真空，实用的真空镀膜机才成为可能。 目前制备光学薄膜的主要方法是：真空蒸发法（20世纪初）和溅射法（19世纪中期） 8、30年代中期，德国的鲍尔和美国的斯特朗先后用真空蒸发方法制备了单层减反射膜； 减反射膜 Antireflection coatings 高反射膜 High-reflectance coatings 中性分束膜 Neutral beam splitters 截止滤光片 Edge filters 带通滤光片 Band-pass filters 偏振分光膜 Polarizing beam splitters 相位膜 Phase coatings 第1章 光学薄膜特性理论计算 几个条件 工作波段：光学波段 薄膜厚度与考虑的波长在一个数量级 薄膜的面积与波长相比可认为无限大 薄膜材料各向均匀、同性 薄膜材料为非铁磁性材料 光穿过膜层而非沿着膜层在膜层内传播 第1.1节 电磁波及其传播变化的电场和变化的磁场不断地相互转化，并由近及远的传播形成电磁波。 3.折射率：refractive index (1)表示电磁波在导电介质中是一个衰减波，消光系数k是介质吸收电磁波的度量。 4.光学导纳（optical admittance) 5.边界条件 (1)垂直入射(k0光波传播方向） (2)倾斜入射 A:TM波(p偏振波)入射时，H与界面平行 B：TE波，即S偏振波入射时，E与界面平行 引入修正导纳的好处是菲涅耳公式的形式简化易记了。 3.单一界面的反射率和透射率 等效界面思想 知识点回顾 第一节 电磁波及其传播 第1.3节 单层薄膜的反射和透射 1、单层介质膜与基底组合的等效导纳 2. 单层介质薄膜的光学特性 1、单层薄膜系统等效导纳求解 （3）在界面2利用边界条件说明： ①膜层与基底组合的特征矩阵 ②膜层的特征矩阵 ③(4)单层介质薄膜反射率随膜层厚度的变化规律 1. 在等效界面两侧：应用Maxwell边值关系将界面两侧的场联系起来； 2. 在真实膜系中：a. 在每一界面运用Maxwell边值关系，将界面两侧的场联系起来；b. 利用膜层位相厚度，将每一膜层上下两界面内侧的场联系起来；c. 将所有界面所得关系式联立迭代，得出入射介质中场与出射介质中电磁场场的关系式； 3. 以入射介质中的电磁场为桥梁，建立等效介质的等效导纳与被等效真实膜系参数之间的关系。 1）.第 j 层膜上界面外侧场与其下界面外侧场之间的关系为：注 意： a. E.H角标中，第一角标是介质层数，第二角标是界面数； b. 该关系对任意两个相邻界面都成立，有k层膜，就可以写出k个这样的关系式。 2）. 在任意界面两侧：3）. 由k层膜组成的膜系，入射介质中与出射介质中的场可建立关系： 4）. 将和代入上式可得： 则可得 各层膜的特征矩阵皆为 提示： 电场强度方向为切向方向，磁场强度分解为切向与法向两个方向。 引入修正导纳 菲涅耳公式可改写为 TE、TM波的菲涅尔反射系数相同，仅透射系数不同 定义：反射率与透射率 其中，A是能量吸收率。 对于无吸收的全介质膜系统 T+R=1。 注意区分： 1、菲涅尔系数、与反射率、投射率的差别 2、反射、透射率的定义 薄膜系统存在多界