国产镀膜机作业指导书..docVIP

1. 目的/范围 规范镀膜操作工艺，确保安全生产。 2. 定义/缩写词 NA 3. 参考文件 NA 4. 职责与权限 本文件适用于高意光学镀膜中心镀膜工种，在所有工程师商讨通过之后有权改动其中内容。文件制定、执行者姜海，镀膜总工艺李全民对此文件有最终解释权。 5. 工具及设备 国产镀膜机及配件、分光光度计。 6. 作业内容 1膜厚控制方式：过正极值法、定值法和晶控法。 2镀膜操作步骤： 2.1镀膜员工基本要求： 每天早晨开机之前了解一天内所要镀的产品，镀每一灶之前都要检查核对派工内容，检查产品或试镀品的生产任务单号、数量、镀膜指标，跟据相应的指标找出《镀膜生产工艺卡》，无相应镀膜生产记录表，操作员有权利拒绝镀膜。 2.2开机： 2.2.1确认总电源、总气路、总循环水正常工作，开启镀膜机总电源。 (重要环节/语言很难描述的环节) 2.2.2北仪：依次开（维持泵）、机械泵、前级阀、扩散泵，扩散泵温度到设定温度（须预热60分钟以上才能正常工作）。 南光：依次开机械泵、预阀、扩散泵（1#镀膜机260℃，7#镀膜机230℃，8#镀膜机240℃），各阀门开关间隔5秒。 2.2.3依次开启真空计、晶控仪、膜厚控制仪、气体流量显示仪、光源（预热80分钟，非正常工作下电流值调至工作状态的一半）、单色仪控制器、工转电源、计时器和照明。 2.3热机 2.3.1如果超过8小时未开机，除7#镀膜机，其余都需要热机。各机台大清洗之后，必须热机。 2.3.2 按照此文件依次执行抽低真空、抽高真空、镀膜前准备等各步骤，开烘烤到100℃恒温10分钟。 2.3.3开启离子源、电子枪，使机器处于镀膜状态，镀Ta2O5膜料10nm，镀膜之后关闭电子枪，离子源，此操作为检验镀膜机各设备是否处于正常工作状态。 2.3.4按此文件执行镀膜后步骤，以上步骤具体内容详见下文。 2.4抽真空前准备： 2.4.1北仪： 按充气阀对真空室充气，充气完毕关充气阀。 南光：按放气阀对真空室充气（此时系统报警，十秒钟后报警消失，无报警系统镀膜机省略此步骤），充气完毕关放气阀。 2.4.2打开真空室门，取下产品和陪镀片，清扫真空室内的粉尘(注意做卫生前一定要用离子源盖盖住离子源头，以免灰尘落入离子源中造成短路或打火，卫生完成后要记得取走离子源盖并且用吸尘器吸一遍离子源表面的灰尘)。 北仪：将用过的光控片取出，放到回收出，将擦好的光控片放在监控盘中，检查光路是否照射在光控片正中心，如果没有及时调整。 南光：将用过的光控片取出（六个光控片为一个单元，当六位都用完之后更换整盘光控片），放到回收出，将擦好的光控片放在监控盘中，检查光路是否照射在光控片正中心，如果没有及时调整更换光控片。 晶控片检查：按住两侧卡簧小心取出晶控片装载盒（当晶控仪显示晶控片寿命小于94%时，更换晶控片），倒出晶控片，放在回收盒内，取新的晶控片放入装载盒中，按住两侧卡簧小心把装载盒放回晶控探头中，依次按abort、reset、start(必须在手动控制状态)键后晶控寿命显示为99或98，并且无报警，说明更换成功，然后退出控制状态。添加膜料具体步骤详见《镀膜膜料作业指导书》。检查光路，并吸除光路中的灰尘（如果有垢吸除不了，应用光学擦拭用的绸布沾酒精对表面进行清洁，如果仍然清洁不了，影响通光，通知设备人员进行更换或取出抛亮）。检查单色仪（入射光狭缝宽度0.72mm，出射光狭缝宽度0.12mm）、电子枪挡板、电子枪偏转（X、Y）、离子源接线，如有异常应及时修复（所列检查项目详见《镀膜自检表》）。 2.4.3关闭真空室门，空抽一分钟后充气，静置五分钟。 2.4.4打开真空室门，将工件盘装入真空室，同时根据需要装上已经擦拭的陪镀片，陪镀片材料和数量按照各机台相应《镀膜生产工艺卡》中规定放置。参照《镀膜操作自检表》的装件的核对各项工作是否已经完成，经相关人员确认自检无误后关闭真空室门。 2.5抽真空： 2.5.1北仪：开机械泵，开预抽阀，(未使用维持泵的应先关前级，再开预抽)，当真空抽至P=100Pa时，开光栏阀（无光栏阀的省去这一步）。 南光：关闭预阀，开低阀，当真空室内真空度（真空计左端读数）抽至6Pa时，关闭低阀。 2.5.2北仪：室真度抽至30Pa时，开罗茨泵，抽至3Pa时(无罗茨泵抽到7Pa)，关闭预抽和光栏阀，开前级阀、高阀。高阀开后热镀工艺要开启烘烤并设定温度及预设电流。 南光：开预阀，当扩散泵冷阱真空度（真空计右端读数）抽至小于5.0×10-1Pa时，开高阀（此时要求真空室内真空度小于8Pa）。注意：如果开预阀后马上开高阀，扩散泵冷阱真空度则低于真空室内真空度，这样会导致扩散泵油进入真空室（“返油”），严重影响镀膜质量，所以一定要按以上要求操