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- 2017-01-26 发布于上海
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羟基的保护[精选]
羟基的保护 酯类保护基 1、酯类保护基的生成 一般由醇和相应的酸酐、酰氯在吡啶或三乙胺存在下,0~20?C反应得到。如反应过慢,可加入催化量的DMAP来加速。tBuCOCl可以选择性的保护伯羟基。 2、酯类保护基的除去 一般情况下,酯类保护基的除去均在碱性条件下去除。 对于乙酸酯保护基一般在温和的碱性条件下就可以出去,常用的碱为K2CO3、NH3、肼、胍、KCN、Et3N、或iPr2Net等。在水和醇的体系中乙酸酯在酸催化下也能发生水解或酯交换除去。 位阻较大的Piv需要较强的碱性体系,如KOH/MeOH除去。但TBDMS醚是不能承受的, Piv的另一种去除方法是金属氢化物还原,如LiAlH4、DIBAL或KBHEt3等。 硅醚保护基 硅醚保护基主要有:TMS、TES、TBS、TIPS、TBDPS等。 TMS醚一般用TMSCl或更高活性的TMSOTf在吡啶、iPr2NEt、咪唑或DBU的存在下与羟基快速成醚。溶剂可以为DCM、乙腈、THF、DMF。 TBDPS醚一般使用TBDPSCl/Imid/DMF体系,DMAP作催化,溶剂也可用DCM,但不能保护叔醇。 TMS醚对酸碱都很敏感,K2CO3/MeOH或HOAc/MeoH均能除去。 TES的水解稳定性比TMS好,但比TBS差。一般可以
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