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化学修饰调节双层石墨烯带隙的密度泛函估算培训教案
学 号 122103 报告人 汪 炳 伟 化学修饰调节双层石墨烯带隙的密度泛函估算 汇报提纲 D. W. Boukhvalov and M. I. Katsnelson, Phys. Rev. B 78, 085413 (2008) 1、背景介绍 Chiral “Klein” tunneling[1] [1] M. I. Katsnelson, K. S. Novoselov, and A. K. Geim, Nat. Phys. 2, 620 (2006). [2] X. Liu, A. F. Morpurgo, and L. M. K. Vandersypen, Nat. Mater.7, 151 (2008). 在晶体管上的应用 双 层 石 墨 烯 打开电子能谱中的真实带隙 施加强垂直电场[2] 2、计算方法 1) 计算方法的选择与主要参数设置 Energy mesh cutoff of 400 Ry K-point 411*11*1 mesh W. L. Wang, S. Meng, and E. Kaxiras, Nano Lett. 8, 241 (2008) 2) 石墨烯化学掺杂最稳构型 3、结果与讨论 3、结果与讨论 4、结论 * 1、石墨烯,碳的一种最新发现的二维同素异构体,由于其二维几何构型和非常高的电子迁移率,被认为是未来电子行业发展的最有前景的材料。石墨烯的一些奇异的量子现象使科学界为之着迷。 * * 1、石墨烯,碳的一种最新发现的二维同素异构体,由于其二维几何构型和非常高的电子迁移率,被认为是未来电子行业发展的最有前景的材料。石墨烯的一些奇异的量子现象使科学界为之着迷。 *
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