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CAD/CAM技术基础大作业 题目： 微纳米加工技术及其应用 学 院： 机电工程学院 班 号： 姓 名： 学 号： 成 绩： 指导教师： 日 期： 2014年05月28日 微纳米加工技术及其应用 摘 要 材料与结构在微纳米尺度展现了许多不同于宏观尺度的新特征, 纳米技术已经成为当前科学研究与工业开发的热门领域之一. 微小型化依赖于微纳米尺度的功能结构与器件, 实现功能结构微纳米化的基础是先进的微纳米加工技术. 文章对微纳米加工技术做了一个综合的介绍, 简要说明了微纳米加工技术与传统加工技术的区别. 在微纳米加工技术的应用方面提出了一些合理选择加工技术的原则, 并对当前微纳米加工技术面临的挑战和今后发展的趋势作了预测. 关键词 微纳米技术, 微纳米加工, 微系统技术, 微小型化 引言 自21世纪以来， 由半导体微电子技术引发的微型化革命进入了一个新的时代, 这就是纳米技术时代. 从微米到纳米的过渡不仅仅是量的过渡而且代表了质的跃迁。材料与结构在100nm以下显现出不同于宏观世界的性质。纳米科技为人类展现了微观世界的新天地。从晶体管到集成电路, 从微电子到微机械与微流体, 从微米技术到纳米技术, 微纳米技术已经成为当今高科技的代名词。无论是集成电路技术, 还是微系统技术或纳米技术, 其共同的特征是功能结构的尺寸在微米或纳米范围, 因此可以统称为微纳米技术。微纳米技术依赖于微纳米尺度的功能结构与器件，实现功能结构微纳米化的基础是先进的微纳米加工技术。在过去的50年中, 正是微纳米加工技术的发展促进了集成电路的发展, 导致集成电路的集成度以每18个月翻一番的速度提高。现代微纳米加工技术已经能够将上亿只晶体管做在方寸大小的芯片上，最小电路尺寸为90nm的集成电路芯片已经开始大规模生产，65nm 的集成电路芯片已开始小批量工业化生产, 而45nm 加工水平的集成电路已经在研发阶段。除了集成电路芯片中的晶体管越做越小, 微纳米加工技术还可以将普通机械齿轮传动系统微缩到肉眼无法观察的尺寸。微纳米加工技术可以制作单电子晶体管,可以实现单个分子与原子操纵。微纳米加工技术可以建筑人类进入微观世界的桥梁, 是人类了解和利用微观世界的工具。因此了解微纳米加工技术对于理解微纳米技术, 以及由微纳米技术支撑的现代高科技产业是非常重要的。 一、 微纳米加工技术的分类 自人类发明工具以来，加工是人类生产活动的主要内容之一．所谓加工是运用各种工具将原材料改造成为具有某种用途的形状．一提到加工，人们自然会联想到机械加。机械加工是将某种原材料过切削或模压形成最基本的部件，然后将多个基本部件装配成一个复杂的系统。某些机械加工也町以称为微纳米加工。因为就其加工精度而言，某些现代磨削或抛光加工的精度可以达到微米或纳米量级。但本文所讨论的微纳米加工技术是指加工形成的部件或结构本身的尺寸在微米或纳米级，微纳米加工技术是一项涵盖门类广泛并且不断发展中的技术。在2004年国际微纳米工程年会上，曾有人总结出多达60种微纳米加工方法，可见实现微纳米结构与器件的方法是多样的。本文不可能将所有微纳米加工技术一一介绍，在此仅概括性的介绍。 1. 平面工艺 以平面工艺为基础的微纳米加工是与传统机械加工概念完全不同的加工技术。图1描绘了平面工 艺的基本步骤。平面工艺依赖于光刻( lithog raphy )技术。首先将一层光敏物质感光，通过显影使感光层受到辐射的部分或未受到辐射的部分留在基底材料表面。它代表了设计的图案，然后通过材料沉积或腐蚀将感光层的图案转移到基底材料表面。通过多层曝光, 腐蚀或沉积, 复杂的微纳米结构可以从基底材料上构筑起来。这些图案的曝光可以通过光学掩模投影实现, 也可以通过直接扫描激光束, 电子束或离子束实现。腐蚀技术包括化学液体湿法腐蚀和各种等离子体干法刻蚀，材料沉积技术包括热蒸发沉积,化学气相沉积或电铸沉积。 图1 平面工艺的基本过程 平面工艺是最早开发的，也是目前应用最广泛的微纳米加工技术。平面工艺之所以不同于传统机械加工是因为: （1）微纳米结构由曝光方法形成, 而不是加工工具与材料的直接相互作用. 所以限制加工结构尺寸的不是加工工具本身的尺寸, 而是成像系统的分辨率, 例如光波的波长, 激光束, 电子束或离子束直径;（2）平面工艺一般只能形成二维平面结构, 或准三维结构, 而不是真正的三维系统. 平面工艺形成的三维结构是通过多层二维结构叠加而成的；（3）平面工艺形成的是整个系统，而