Sb掺杂ZnO论文直流磁控溅射制备ZnOSb薄膜及其光学性能研究.docVIP

Sb掺杂ZnO论文：直流磁控溅射制备ZnO：Sb薄膜及其光学性能研究 【中文摘要】氧化锌(ZnO)是一种新型的直接宽禁带化合物半导体材料,室温下禁带宽度约为3.37eV ,激子束缚能约为60meV,在室温下易实现高效率的受激发射。由于ZnO在结构、电学和光学等方面有诸多优点,加上ZnO薄膜制作方法的不断优化,使其在发光二极管、透明导电膜、太阳能电池窗口材料、表面声波器件、气敏传感器等领域具有广泛的应用。本文采用直流磁控溅射镀膜工艺,分别在玻璃衬底上沉积了ZnO及不同锑掺杂浓度的薄膜(ZnO:Sb),在实验中薄膜样品分别在高纯氮气中进行了退火热处理,退火温度为450℃和550℃,退火时间为1小时。采用台阶仪、双光束紫外-可见分光光度计、X射线衍射(XRD)和荧光分光光度计等手段对制备的ZnO及Sb掺杂的ZnO薄膜样品的厚度、结构和光学性质等进行了深入的研究。XRD结果表明,随着退火热处理温度的升高,ZnO晶粒逐渐增大,并逐渐从非晶态向晶态转变,得到在(002)方向上择优生长的ZnO薄膜,获得了稳定性较好的工艺条件。本文分析了Sb的掺杂量、氧气浓度和退火温度对ZnO及ZnO:Sb薄膜透射率、微结构及光学带隙的影响。研究结果发现:Sb的掺杂使得薄膜的晶面间距变大,随着掺杂量的增加... 【英文摘要】Zinc oxide (ZnO) is a new compound semiconductor material with direct wide band gap of about 3.37eV at room temperature. Its exciton binding energy is 60 meV. Theoretically it is more easily to achieve stimulated emission efficiently. The ZnO has many advantages in the structural, electrical and optical, etc. the production methods of ZnO thin films keep optimizing, So there are great potential applications in light-emitting diodes, transparent conductive film, solar cell windows, surface acoustic wave devi... 【关键词】Sb掺杂ZnO 直流磁控溅射 透射率 光学带隙 光致发光 【英文关键词】Sb-doped ZnO DC magnetron sputtering Transmittance Optical band gap Photoluminescence 【目录】直流磁控溅射制备ZnO：Sb薄膜及其光学性能研究 摘要 5-6 ABSTRACT 6-7 1 绪论 10-25 1.1 概述 10-12 1.2 ZnO 的结构及薄膜的优点 12-14 1.3 ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的性质及应用研究 14-19 1.3.1 ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的性质 14-18 1.3.2 ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的应用 18-19 1.4 ZnO 薄膜的光致发光研究状况 19-24 1.4.1 ZnO 薄膜的光致发光 20-22 1.4.2 掺杂ZnO 薄膜的光致发光 22-24 1.5 研究内容及目的 24-25 2 ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的制备 25-31 2.1 ZnO 薄膜的制备技术及进展 25-27 2.1.1 磁控溅射工艺(Megnetron Sputtering) 25 2.1.2 脉冲激光沉积（PLD） 25-26 2.1.3 分子束外延（MBE） 26 2.1.4 金属有机化合物气相沉积（MOCVD） 26 2.1.5 溶胶-凝胶（Sol-Gel） 26-27 2.2 反应磁控溅射法 27-28 2.2.1 磁控溅射机理 27-28 2.2.2 磁控溅射沉积的特点 28 2.2.3 直流反应磁控溅射法的优势 28 2.3 ZnO 薄膜及ZnO：Sb 薄膜的制备过程 28-30 2.3.1 实验设备与仪器 28-29 2.3.2 实验工艺 29-30 2.4 小结 30-31 3 ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的表征与分析 31-38 3.1 薄膜厚度的测定 31-32 3.2 透射率的测试 32-33 3.3 物体微结构X 射线衍射测定 33-35 3.4 光致荧光光谱的测试 35-37 3.5 小结 37-38 4 ZnO 及ZnO：Sb 薄膜的结构和光学性能研究 38-51 4.1 氧气浓度对薄膜性能的影响