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 Quantum Design For Scientist, By Scientist                                     无掩模激光直写光刻系统介绍                         Quantum Design中国子公司        Durham Magneto OpticsLtd           目录  系统简介1 实验室空间要求2 内部温度稳定度3 分辨率3 波长3 对准机制3 对焦4 书写速度5 基片尺寸6 曝光任务结合6 基片布局设计7 校正和维护8 控制软件8 系统选件8 MicroWriterMLTM与电子束刻蚀8 标准9 配套设施要求9 环境要求9 系统基本配置包括9 案例10 图片集11        系统简介   TM MicroWriterML 是专为科研实验室和小型超净室设计开发的多功能光刻系统，适用于快速制造原 型样品和小规模生产。  传统的光刻工艺中所使用的铬玻璃掩模板需要由专业供应商提供，但是在研发环境中，掩模板的设计 通常需要经常改变。激光直写光刻技术通过以软件设计电子掩模板的方法，克服了这一问题。与通过 物理掩模板进行光照的传统工艺不同，激光直写是通过电脑控制一系列激光脉冲的开关，在光刻胶上 直接曝光绘出所要的图案。  MicroWriterMLTM是一款最新设计的激光直写光刻系统，不仅具有无掩模板直写系统的灵活性，还 拥有高书写速度和低成本的特点。15个蓝光激光头可以在电脑控制下进行平行工作对基片上无需高 分辨率的部分进行高速书写曝光，之后自动切换高分辨激光，并对需要高分辨的细节进行加工。这样 的设计在加工速度和分辨率之间取得了最好的平衡，并通过软件改变曝光图案设计完整保证了其灵活 性。 TM 图1 ：TheMicroWriterML   1 实验室空间要求   TM MicroWriterML 是一套完全自成体系的单元。单元拥有被动式气动减震平台，一体化的键盘和显