热处理气氛对犣狉犗2 活性扩散障／荦犻犆狉犃犾涂层界面反应的影响.PDFVIP

下载本文档

2
0
约 6页
2017-06-15 发布于天津
举报
版权申诉

热处理气氛对犣狉犗2 活性扩散障／荦犻犆狉犃犾涂层界面反应的影响.PDF

1、本文档共6页，可阅读全部内容。
2、原创力文档（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。
3、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
4、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
5、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
6、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
7、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
8、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

热处理气氛对犣狉犗2 活性扩散障／荦犻犆狉犃犾涂层界面反应的影响

第卷第期中国表面工程２８２Ｖｏｌ．２８Ｎｏ．２　　　　　年月２０１５４ＣＨＩＮＡＳＵＲＦＡＣＥＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧＡｒｉｌ２０１５ｐ：／ｄｏｉ１０．１１９３３．ｉｓｓｎ２０１５．０２．００４ｊ热处理气氛对犣狉犗２活性扩散障／犖犻犆狉犃犾涂层界面反应的影响 ，１１２２２１３刘林涛，李争显，华云峰，杜继红，杨晨曦，宗洋洋（西安建筑科技大学冶金工程学院，西安；西北有色金属研究院腐蚀与防护研究所，西安；东１．７１００１６２．７１００４３３．北大学材料与冶金学院，沈阳１１０８１９）摘要：为研究活性扩散障的形成机制，采用电子束物理气相沉积技术（）在镍基高温合金表面分ＺｒＯＥＢＰＶＤＤＤ５　２别沉积先驱层与涂层，分别在真空条件和大气条件下对试样进行温度为，及，时间为的ＺｒＯ２ＮｉＣｒＡｌ７００８００９００℃ ５ｈ高温热处理。分析了试样的截面形貌、扩散反应区厚度以及／涂层界面处的元素分布，并研究了热处理气ＺｒＯＮｉＣｒＡｌ２氛对／涂层界面反应的影响。结果表明：真空条件更有益于界面反应的进行，并发现经过热处理ＺｒＯＮｉＣｒＡｌ９００℃ ５ｈ２后，活性扩散障／涂层界面之间形成了致密的阻挡层；而在大气气氛下，涂层中部分元素ＺｒＯＮｉＣｒＡｌＡｌＯＮｉＣｒＡｌＡｌ２２３向表面扩散形成氧化膜，从而影响了／涂层的界面反应。ＺｒＯＮｉＣｒＡｌ２关键词：界面反应；元素扩散；ＮｉＣｒＡｌ涂层；扩散障中图分类号：文献标志码：文章编号：（）ＴＧ１７４．４４４Ａ