新型自增感负性光敏聚酰亚胺论文.pdfVIP

高分子材料科学与工程研讨会 新型自增感负性光敏聚酰亚胺 姜学松李浩王宏字史子兴印杰’ 上海交通大学化学化工学院上海200240 作为一类高性能的聚合物材料，聚酰亚胺具有非常优异的热性能、机械性能和电性能， 广泛地应用于航天、电气和微电子等工业领域[1—2]。由于能够非常方便地得到设计的图形， 光敏性聚酰亚胺近年来引起了研究人员的极大兴趣，在微电子工业中的封装、绝缘等领域起 到非常重要的角色[3]。在大多数光敏聚酰亚胺体系中，为了能得到设计的图形需要加入一些 对紫外光敏感小分子如光引发剂。实际上．由于只有部分的光引发剂在曝光的过程中被消耗， 造成大量的小分子残留在体系中，这些小分子会影响膜的电、热和机械性能[4—5]。因此开发 自增感的光敏性聚酰亚胺来克服这一缺点。将具有光敏性的二胺和丙烯酸酯类基团引入到聚 酰亚胺链中，我们制备出自增感负性光敏聚酰亚胺。同时研究这种光敏聚酰亚胺光刻性能。 权疼…吣sQ2口s岔毗’汐吨 凇jl： 晚p呶驴心埝op畴