1探索酸性基团在193nm高性能光致抗蚀剂聚合物.pptVIP

PNAMA吸光性能比HFA和FSM的均聚物高得多，也就是透光性不够好 5 FSM光刻胶（热学、光学、溶解、抗蚀） FSM较HFA只有微小的优势 5 FSM光刻胶（热学、光学、溶解、抗蚀） 但是从微观机理来看，氟含量的作用就明显多了 NBHFAMA单元的聚合物支柱与HFA基团中间有一个脂环族基团——补偿蚀刻性能的降低 TFSM中没有这种补偿效应。若TFSM含有脂环族基团(补偿)的话，性能会更好。 新型材料发展的背景及概述 FSM的制备 三种光刻胶的溶解性能 HFA光刻胶 FSM光刻胶（热学、光学、溶解、抗蚀） FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） 萘酚 总结 设计和开发193nm高性能光致抗蚀剂聚合物 ——探索酸性官能团在其中的作用 6 FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） FSM光刻性能 6 FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） FSM抗蚀剂的亮与暗兼容性能 一般来说 在明亮的视场照明条件下，光刻胶趋于过度曝光 在较暗的视场光刻胶曝光不足 FSM有很好的亮与暗兼容性能 6 FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） TFSM/MADMA/NLM三元共聚物为基础的FSM抗蚀剂在明场和暗场照明条件下的光刻样例 6 FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） 另外着重考察暗场中的性能 6 FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） 金属等级光照条件（较暗的光照条件?） 6 FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） 暗场中FSM抗蚀剂在接触孔等级应用中也表现出极好的光刻性能 6 FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） FSM抗蚀剂在干与湿条件下性能 FSM抗蚀剂的浸没兼容性很好 6 FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） FSM抗蚀剂在接触孔等级的性能 致密孔中FSM抗蚀效果 6 FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） 孤立孔下的抗蚀效果 新型材料发展的背景及概述 FSM的制备 三种光刻胶的溶解性能 HFA光刻胶 FSM光刻胶（热学、光学、溶解、抗蚀） FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） 萘酚 总结 设计和开发193nm高性能光致抗蚀剂聚合物 ——探索酸性官能团在其中的作用 7 萘酚 由前面可看出： 含氟的HFA和FSM的酸性官能团可以极大的提高所得到的抗蚀剂聚合物的溶解性能 氟含量却减小抗蚀剂的耐蚀刻性 所以研究了不含氟的光刻胶—萘酚 7 萘酚 萘酚（NAMA）有良好的抗蚀性 PNAMA是一种由萘酚(NAMA)形成的聚合物 其在TMAH显影剂中的溶解测得80nm每秒 设计和开发193nm高性能光致抗蚀剂聚合物 ——探索酸性官能团在其中的作用 第八组 新型材料发展的背景及概述 FSM的制备 三种光刻胶的溶解性能 HFA光刻胶 FSM光刻胶（热学、光学、溶解、抗蚀） FSM光刻胶（亮暗、干湿、接触孔） 萘酚 总结 设计和开发193nm高性能光致抗蚀剂聚合物 ——探索酸性官能团在其中的作用 1 新型材料发展的背景及概述 Exploring Acidic Functionalities in the Design and Development of High Performance 193nm Photoresist Polymers Journal of Photopolymer Science and Technology Volume20, Number4(2007)481－491?2007TAPJ P.R. Varanasi, W. Li, M. Khojasteh, R. Chen, R. W. Kwong, M. C. Lawson, I. Popova, S. Liu 我们这篇文章发表在2007年 1 新型材料发展的背景及概述 45nm工艺（2007年） 193nm浸没式光刻技术 1 新型材料发展的背景及概述 193nm浸没式光刻技术 构建投射光学系统的孔径数值（NA）大于1 从干到湿这一过程，浸没式光刻技术可以增加抗蚀剂焦深（自由度） 光刻工具和流程的进步 193nm抗蚀材料的改进 1 新型材料发展的背景及概述 新的光刻材料： 无膨胀现象 溶解速率高 耐腐蚀性好 分辨率高 明暗兼容性好 含氟量少 1 新型材料发展的背景及概述 传统丙烯酸甲酯光刻胶溶胀性能不好 有膨胀现象 1 新型材料发展的背景及概述 为了减少膨胀现象，研究发现： 引入酸性功能基团有功效 据此设计了新型的193nm抗蚀剂 1 新型材料发展的背景及概述 羧酸官能团（MA）具酸解离常数为4-5 六氟（HFA）官能团酸解离常数为10-11 氟磺酰胺（FSM）官能团的酸解离常数为6-7 这些酸性官能团的酸性顺序是：HFA FSM MA. 新型材料发展的背景及概述 FSM的制备 三种光刻胶的溶解性能 HFA光刻胶 FSM光刻胶（热学、光学、溶解、抗蚀）