离子束辅助沉积(Al,Ti)N硬质涂层工艺优化.pdfVIP

维普资讯 2001年 8月 航 天 工 艺 第 4期 离子束辅助沉积(AI，Ti)N 硬质涂层工艺优化 首都航天机械岔司 李曙光 文摘 金属原子比TU(Ti+A1)月--0～h0和金属离子厚子 (Ti+AI)／NR!-=0．5～l5范围内，当氮离 子柬流密度为0．10roAJmm2, 离子能量为2．0keY耐，采用离子柬辅助沉积(IBAD)(AI,Ti)N 硬质溶层 X-艺优化表明，月。0．25，R2=1．0对．可得到最佳渌层硬度和表面光洁度 由涂层表面及断面电子扫描镜 (SEM)分析，三元素涂层 (A1．Ti)N 组织致密且晶粒细小 由电子探针徽分析(EPMA)，涂层由部氪元素 处于过饱和状态=由X射线衍射(xRD)分析，嚣佳处存在AIN(101)和 N(20o)结构。 主题词 (AI，Ti)N 工艺优化 离子束辅助沉积 硬质潦层 1 引言 过工艺控制，可根据应用需要，实现沉积多层匹配 性能更好的复合涂层 离子束辅助沉积过程由于 硬质涂层的开发和应用越来越受到工业界的 有关参数可量化控制，便于涂层沉积的精确制 瞩 目。二元素涂层 TiN具有优 良的抗摩挣性，已 备．并实现工艺优化。在 IBAD 沉积过程中，会 广泛应用于机械零件、工具等表面增强改性．在 出现离子注人过程中粒子、沉积原子碰撞及沉积 航天发动机中．用于发动机阀门导杆、 字轴等 原子溅射等物理现象以及沉积原子和离子化学反 往复使用零件表面。但该潦层仅具有中等抗腐蚀 应等现象 在不同的加工条件下，涂层的材料结 性能，6oo℃时易氧化分解…：A1N 具有优良的导热 构及物理特性不同”。 。本研究的目的是寻找最 及化学稳老陛 。三元素 (A1 )N硬质涂层呈现 佳工艺参数，以得到最佳涂层硬度和表面光洁度， 更高的硬度和抗氧化温度(大于 800℃)，具有优异 有益于增强涂层的摩擦学性能，如耐磨损特性 的应用价值、如用于高速切削等刀具 多种物理 气相沉积法 (PVD) 和化学气相沉积法 2 工艺优化探索目标函数 (CVD) 。。被用来制备该涂层和调查该涂层的 材料结构和特性。 建立工艺优化探索 目标函数见式(1)。在式(1) 离子束辅助沉积(IBAD)结合了 PVD 的优 中．^(对 ． )分别是不同馀层试件的维氏硬度和 点：如涂层沉积效率高；以及离子注人的优点； 表面光洁度 如改善了涂层和基体界面间结合力 j～由于涂层 沉积和离子注人同时进行，一方面改进 了离子注 人深度浅的缺点，另一方面不象离子注入用高能 … { }+{ )：n 离子，可采用几百至数千电子伏特低能离子，涂层 沉积时温度较低，这对于同时要保持基体材料性 能、几何精度的精密零件显示出优越性．较易通 投稿 日j田：2001．07．15 5 维普资讯 2001年8月 航 天 工 艺 第4期 两个电子束蒸发热源、控制系统等组成。所用的 VF()：OF!X)vR'．f．+~x)VR．f，(2) 离子束能量可在 2．0keV至 20keY范围内调节 2