磁控溅射含Ti非晶碳膜的微观结构分析.pdfVIP

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维普资讯 第37卷 第4期 稀有金属材料与工程 V_01_37.No.4 2008笠 4月 RAREMETALMATERIALSANDENGINEERJNG April2008 磁控溅射含 Ti非晶碳膜的微观结构分析 杜 军 ,张 平 ,何家文 2 (1.北京装 甲兵工程学院 装备再制造技术国防科技重点实验室,北京 100072) (2.西安交通大学,陕西 西安 710049) 摘 要:用磁控溅射方法制备了含 Ti4at%,18at%,27at%的非晶碳膜 。用 XPS分析 了含 Ti18at%碳膜的碳键结构、化 合物组成 。结果发现 :碳膜 的C1s峰在284eV附近 ,碳膜 中sp:sp=14.6:6.3,sp 占明显优势,碳键结构以sp为主; Ti2p谱的455.2eV处的峰对应 TiC,说 明形成了TiC。用 XRD对含 Ti4at%,18at%,27at%碳膜进行物相分析 。结果 发现:含 Ti18at%和 27at%时,都存在 TIC(111),TiC(200)和 TiC(220)晶向,但 27at%的Ti(111)取 向更加 明显;4at% 时,没有发现 TiC相 。TEM 的分析结果证明,含 Ti18at%的碳膜在非晶的基体上分布有 TiC的颗粒 。四点探针法 (FPM) 测定 3种非晶碳膜 的电阻率分布在 9×10s-2×104Q.m之间,随着 Ti含量的增加 ,电阻率减小。可 以认定:磁控溅射 制备的碳膜是碳键结构以sp为主的非晶碳膜 ,加入一定量 Ti后 ,在非晶的基体上形成 Ti化合物 的晶体颗粒。 关键词:碳膜 ;碳键结构;微观结构;非 晶 中图法分类号:TB43;O613.71 文献标识码:A 文章编号:1002.185X(2008)04.0633.04 非晶碳膜因其碳杂化态和含氢量的不 同而有多种 本研究应用磁控溅射的方法制备了含 Ti4at%, 名称,如 a—C,Ta.C,a.C:H,DLC等 1【q]。研究中, 18at%,27at%的非晶碳膜 ,采用 XPS、xRD、TEM 主要关心碳的sp3、sp、sp。3种杂化态的含量。一般 和 四点探针测 电阻(FPM)对碳膜 的微观结构进 行 了 情况下,DLC膜指含 H 的 sp 键含量可达 75%的非 分析。 晶碳膜,其性质主要由sp3:sp之比决定。这种膜具有 1 实验方法 硬度高、摩擦系数低 的优点,作为抗磨减摩镀层受到 了广泛关注 。 选用 M2高速钢(W6Mo5Cr4V2)为基材,经常规 但 DLC薄膜通常具有较高的内应力,这使得其沉 热处理后进行表面抛光处理,硬度为 HRC63~66,表 积厚度受到严重限制且易产生剥落;同时,DLC同铁 面粗糙度为R=0.03 m。试样经 741除油剂清洗,磷 基材料之间存在触媒作用(ag与黑色金属接触 时发生 酸活化后丙酮超声波清洗,放入真空室,用氩离子溅 sp 向sp转变、,限制 了其应用[5,6]。为了克服 DLC的 射清洗 ,然后进行沉积 。膜层厚度一般 2~3岬 。 以上缺点,Dimigen等r7J建议在 DLC中加入合金元素 2 结果与讨论 形成所谓的合金碳膜 (Me.DLC或 Me.C:H)。合金碳 膜保持 了优异的摩擦学性能同时内应力显著降低 ,提 2.1 XPS分析 高了膜基结合强度 ,从而拓展了 DLC 的应用。Teer 图 1是含 Ti18at%碳膜 的XPS全谱 。存在

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