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过程控制系统与仪表 第7章 7.3大滞后过程控制系统 在工业生产中，控制通道往往不同程度地存在着 纯滞后。一般将纯滞后时间 τ与时间常数T之比大于 0 0.3 （τ/ T ＞0.3 ）的过程称之为大滞后过程。 0 此时，被调量不能及时地反应系统所承受的扰动，使 过程产生较明显的动态偏差和较长的调节时间，因此对象 属于难控对象。 实例：皮带传送（磨煤制粉系统）; 多容量对象（多个设备的串联,如:多级过热器）; 成份测量; 大滞后过程是公认较难控制的过程。其难于控 制的主要原因是纯滞后的增加导致开环相频特性相 角滞后增大，使闭环系统的稳定性下降。为了保证 稳定裕度，不得不减小调节器的放大系数，造成控 制质量的下降。 最早的大滞后过程控制方案是采样控制。 过程控制系统与仪表 第7章 7.3.1大滞后过程的采样控制 所谓采样控制，是一种定周期的断续PID控制方 式，即控制器按周期T进行采样控制。在两次采样之 间，保持该控制信号不变，直到下一个采样控制信号 信号到来。保持的时间T与必须大于纯滞后时间 τ。 0 这样重复动作，一步一步地校正被控参数的偏差值， 直至系统达到稳定状态。 这种“调一调，等一等”的方案的核心思想就是 放慢控制速度，减少控制器的过度调节。 过程控制系统与仪表 第7章 典型的大滞后过程的采样控制系统框图如图所 示。图中，采样控制器每隔采样周期T动作一次。 S 、S 表示采样器，它们同时接通或同时断开。 1 2 S 、S 接通时，采样控制器闭环工作；S1、S2 1 2 断开时，采样控制器停止工作，输出为零，但是上 一时刻的控制值u*(t)通过保持器持续输出。 S1 S2 x (t) u(t) y (t) 采样控制器 保持器 执行器 过程 + * * e (t) u (t) _ 变送器 采样控制是以牺牲速度来获取稳定的控制效果，如 果在采样间隔内出现干扰，必须要等到下一次采样后才 。 其他几种常规解决方案： 微分先行控制方案 D R （s ） 1 −τ s Y （s ） k (1 + ) d c k g (s)e T s p p i s 1 τ + 1 sτ 1+ 2 特点： 将微分作用移到反馈回路，加强微分作用，减少动态