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超深亚微米互补金属氧化物半导体器件的剂量率效应郑齐文-物理学报
超深亚微米互补金属氧化物半导体器件的剂量率效应
郑齐文 崔江维 王汉宁 周航 余徳昭 魏莹 苏丹丹
Dose-ratesensitivityofdeepsub-microcomplementarymetal oxide semiconductor process
ZhengQi-Wen CuiJiang-Wei WangHan-Ning Zhou Hang YuDe-Zhao WeiYing Su Dan-Dan
引用信息Citation: ActaPhysicaSinica, ,076102(2016) DOI: 10.7498/aps.65.076102
在线阅读Viewonline: /10.7498/aps.65.076102
当期内容Viewtableofcontents: /CN/Y2016/V65/I7
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超深亚微米互补金属氧化物半导体器件的
剂量率效应
郑齐文 崔江维 王汉宁 周航 余徳昭
魏莹 苏丹丹
1) (中国科学院新疆理化技术研究所, 中国科学院特殊环境功能材料与器件重点实验室, 乌鲁木齐 830011)
2)(新疆电子信息材料与器件重点实验室, 乌鲁木齐 830011)
3)(中国科学院大学, 北京 100049)
4)(北京微电子技术研究所
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