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tisin纳米复合薄膜的制备及其力学性能-中国有色金属学报
第 22卷第 5期 中国有色金属学报 2012年 5月
Vol.22 No.5 The Chinese Journal of Nonferrous Metals May2012
文章编号：10040609(2012)05138307
TiSiN 纳米复合薄膜的制备及其力学性能
杨莹泽，张玉娟，翟玉浩，张平余
(河南大学 特种功能材料重点实验室，开封 475004)
摘 要：采用离子束溅射与磁过滤阴极弧共沉积技术在单晶硅片(400)表面制备 Si 含量(摩尔分数)为 3.2%~15.5%
范围内的TiSiN 薄膜。采用 X 射线光电子能谱(XPS)、电子散射谱(EDS)、X射线衍射仪(XRD)研究 TiSiN 薄膜的
显微结构和力学性能。结果表明：低 Si含量的薄膜以面心立方晶型的Ti(Si)N 固溶体形式存在，择优晶面为(200)
面；当 Si 含量饱和后，出现 Ti(Si)N 和 Si N 非晶相，形成 Ti(Si)N/Si N 纳米复合结构。薄膜硬度范围在 22~26
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GPa，采用 SiN 小球为对偶时薄膜的摩擦因数均维持在 0.13~0.17之间。Si含量为 10.9%时，硬度达最大值，结
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合较低的粗糙度，使其摩擦因数和磨损率达到最低值。
关键词：TiSiN；纳米复合薄膜；纳米硬度；摩擦
中图分类号：TG174.44 文献标志码：A
Preparation and mechanicalproperties of
TiSiNnanocompositefilms
YANG Yingze, ZHANG Yujuan, ZHAI Yuhao, ZHANG Pingyu
(Laboratory of Special Functional Materials, Henan University, Kaifeng475004, China)
Abstract: TiSiN films containing 3.2%−15.5% Si (molar fraction) were deposited on Si(400) substrates by ion beam
sputtering combined with filted cathodic arc system. Xray photoelectron spectroscopy (XPS), energy dispersive
spectroscopy (EDS) and Xray diffractometry (XRD) were used to study the microstructure and mechanical properties of
TiSiN films. The results suggest that a Ti(Si)N solid solution with facecentered cubic structure and (200) preferred
crystalline orientation exist in the films with lower Si content. After saturation of Si, the filmsform a twophase structure,
consisting of Ti(Si)N and amorphous
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