1-合金内氧化和选择性氧化.pptVIP

第一章 高温氧化基础;1.4、合金的内氧化与选择性氧化;一、 合金按反应类型分类;二、 合金的内氧化;;当然上述条件只是合金发生内氧化的必要条件，而不是充分条件。如果外氧化膜的生长速度大于内氧化层的生长速度，氧化膜/合金界面移动速度高，不可能建立起内氧化区/合金前沿。只有当外氧化膜的生长速度小于或等于内氧化层的生长速度，才有可能发生合金的内氧化。 合金的内氧化对合金的力学性能有显著影响。例如，内氧化往往发生在合金晶界，使得合金晶界结合减弱，合金强度大幅度下降。另一方面，也可以利用内氧化作为一种工艺技术制备工程复合材料。例如，利用内氧化制备Cu-Al2O3电触头材料。;1、合金内氧化的简化模型;2、 内氧化物析出形态;;3、 从内氧化向外氧化的转变;定义一个表征BOb富集程度的浓度系数 ;; 为使合金发生外氧化，溶质金属B必须具有一定的浓度。而这一浓度值主要受NO(S)（或Po2）、DO及DB的影响。氧的扩散系数越大，合金表面氧的浓度愈高（或气氛中氧分压愈高），或溶质的扩散系数越小，那么发生外氧化时所需溶质在合金中的含量愈高。;三、合金元素的选择性氧化 ; 在低溶质浓度下向外氧化转变的具体措施有： （1）降低氧向内通量的因素，如降低氧分压。 （2）增加B向外通量的因素，如使基体合金晶粒细化以及能起到增加短路扩散的表面处理等，从而增加DB。;（3）在二元合金A－B内添加活性介于A和B之间的第三种元素，可显著降低形成外氧化层所需B的临界浓度。这一现象通常称为第三元素效应。 第三元素作用的机理到目前还不是十分清楚。第三元素可能改变了铝在合金内的活性、溶解度及扩散；或者改变了合金或膜的结构，增强了亚稳态Al2O3到稳态α－Al2O3的转变；或者影响合金表面Al2O3初始形核的密度和分布。另一方面，第三元素效应也并不是广泛地存在。 ;四、 合金的两组分同时氧化;五、常见金属与合金的氧化; 在FeO层氧化膜内，氧离子和电子的迁移率高，这一层的厚度比Fe2O3、Fe3O4层氧化膜厚度高得多。纯铁在1000oC氧化时，生成FeO、Fe2O3、Fe3O4三层氧化膜厚度比为95:4:1。 纯铁在570oC以上氧化时，FeO层氧化膜的生长控制整个氧化速度。FeO的生长速度不受外界氧分压的影响。;2、 Ti的氧化;3、 Zr的氧化;六、纯金属Ni以及二元、三元合金的氧化; Ni的氧化遵循抛物线规律。Ni氧化的抛物线速度常数随氧分压而变化，满足关系式： 其中，对于二价Ni空位，n=6；对一价Ni空位，n=4。 对于不太纯的Ni（如杂质含量在0.1%左右），氧化膜由两层组成：外层致密，为柱状晶；内层疏松，为等轴晶。标记实验表明，外层长大是通过阳离子向外迁移；而内层的形成是由于膜内形成了贯穿的微裂纹，导致氧直接侵入，此种情况下形成的氧化物疏松多孔。;2、M-Cr合金的氧化;（1）、氧化速度增大;（2）、氧化速度缓降;（3）氧化速度陡降;3、M-Cr-Al的氧化; Ni-Cr-Al氧化时，形成Al2O3的临界Al浓度随合金中的Cr含量的增加而降低。当Al含量低而Cr含量较高时，则氧化膜内层为Al2O3而外层为Cr2O3。若Al、Cr含量都较低，氧化膜更为复杂，外层为NiO，内层为Cr2O3/Al2O3/Ni(Al,Cr)2O4。温度升高时，形成Al2O3膜的Al临界含量提高。;1.5、热腐蚀;限籽渡户数迷仲变菲考效橙唐吏蒋墒屏珊陀肩狗寸宇胺牛呀暖揍浦验扒脱1-合金的内氧化与选择性氧化1-合金的内氧化与选择性氧化;二、 热腐蚀机理-- 酸－碱熔??模型;;三、热腐蚀影响因素及控制措施;1.5 高温氧化防护涂层;渗铝剂组成：a. 铝粉或铁铝合金粉； b. 稀释填充剂 (氧化铝)， c. 活化剂(氯化铵)。;2、 覆盖涂层（Overlay coatings） ; 2） 陶瓷涂层;1.2 涂层性能要求;二、典型高温防护涂层;1、铝化物涂层;① 试样原始表面对应于Ni2Al3相表面； ② 不产生Kirkendall孔洞； ③ 渗剂中的Al2O3颗粒不能进入Ni2Al3相。 ;(2) 外扩散型;(1) 试样的原始表面位于涂层中间 (2) 一般不易形成Kirkendall孔洞。 (3) 包埋渗的Al2O3颗粒只镶嵌在外层。;2、 改性的铝化物涂层;2.3、 MCrAlY涂层;2.4 热障涂层;作业题： P33的3、4、8、10、11题 哈菲价法则