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x射线二极管平响应滤片的制作 fabrication 0f x-ray diode flat-response filters

加工、测量与设备 and Processing,MeasurementEquipment x射线二极管平响应滤片的制作 辛 将1’2,谢常青1,李志超3,朱效立1,刘明1,徐 超2,陈军宁2 (1.中国科学院微电子研究所纳米加工与新器件集成技术实验室,北京 100029; 2.安徽大学电子科学与技术学院,舍肥230039; 3.中国工程物理研究院激光聚变研究中心,四川 绵阳 621900) 摘要:针对X射线二极管平响应滤片的设计要求。采用电子束蒸发生长薄金层、紫外光曝光光 刻、微电镀厚金层、体硅腐蚀制作镂空结构和等离子体刻蚀去掉PI等技术,成功制备了阵列结 构的圆孔直径为5 nm的薄、厚两种金层滤 btm,周期为10.854gm,金层厚度分别为50,400 片。电镀过程中采用台阶仪多次测量图形四周电镀厚度后取均值的方法得到尽可能准确的电镀厚 金层。滤片交付实验后,在X光能量0.1~4keV取得的平响应曲线标准偏差与均值之比在13% 以内,可以满足相关单位的具体物理研究实验要求。 关键词:微电镀;体硅腐蚀;等离子体刻蚀;X光平响应;紫外光曝光 文献标识码:A 1)01—0053—05 中图分类号:TN305 文章编号:1671—4776(201 Fabricationof Diode Filters X··Ray Flat--Response Xin Zhicha03,ZhuXiaoLi’。Liu Cha02。Chen Changqing’,Li Ming’,Xu Junnin92 Jian91~,Xie LabNano-FabricationandNovelDevices Microelectronics, Technology·Instituteof (1.Keyof Integrated Chinese 100029,Chinal2.SchoolElectronicScienceand Sciences。Beijing of Technology· Academyof Anhui 230039,China;3.ResearchCenterLaserFusion,China University。Hefei of Academyof 621900.China) EngineeringPhysics,Mianyang ofthe the diode two Abstract:Onaccount of filter,the designrequirementX—ray flat—response

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