电感耦合等离子体原子发射光谱法测定fpc 用压延铜箔镀层中 ni、co 含量 determination of ni and co contents in plating of rolled copper foil for fpc by icp-aes.pdfVIP

第４５ 卷　第１ 期 有色金属加工 Ｖｏｌ４５　Ｎｏ１ 　　 ２０１６年２月 ＮＯＮＦＥＲＲＯＵＳ ＭＥＴＡＬＳ ＰＲＯＣＥＳＳＩＮＧ Ｆｅｂｒｕａｒｙ２０１６ 电感耦合等离子体原子发射光谱法测定 ＦＰＣ用压延铜箔镀层中Ｎｉ、Ｃｏ 含量 薛方忠１，２ （１．山东天和压延铜箔有限公司，菏泽２７４０００；２．山东省电子压延铜箔工程实验室，菏泽２７４０００） 摘　要：应用电感耦合等离子体原子发射光谱法（ＩＣＰ－ＡＥＳ）同时测定压延铜箔镀层中镍、钴的含量，选择在钴分析谱线 ２２８．６ｎｍ和镍分析谱线２３１．６ｎｍ处进行测定，采用基体匹配法配置工作曲线；结果表明，该方法两种元素的回收率在 ９９％～１０４％，相对标准偏差０．１％～０．９％。 关键词：电感耦合等离子体原子发射光谱法；压延铜箔；镀层；镍；钴 中图分类号：ＴＧ１１５．３　　　文献标识码：Ａ　　　文章编号：１６７１ －６７９５（２０１６）０１ －００２３ －０４ 　　压延铜箔广泛用于挠性印制电路板（ＦＰＣ）、高频 卸式垂直观察式矩管，旋流雾化室，同心型雾化器，工 电路、精细线路的印制电路板中，铜箔在与印制板基 作气体为高纯氩气（≥９９．９９９％）。实验所采取的仪 板压合之前，必须进行特殊的表面处理形成具有耐热 器工作参数见表１。 性、防扩散阻挡性及抗氧化的镀层，才能表现出优良 ［１］ 表１　仪器工作参数 的抗剥性、蚀刻性及耐热性 。压延铜箔表面处理方 式有Ｃｕ－Ｃｏ－Ｎｉ三元合金电镀、Ｃｕ－Ｎｉ合金电镀［２］ Ｔａｂ．１　Ｏｐｅｒａｔｉｏｎ ｐａｒａｍｅｔｅｒｓ ｏｆｔｈｅ ＩＣＰ－ＡＥＳ ｓｙｓｔｅｍ 等，镀层中Ｎｉ、Ｃｏ 附着量将直接影响表面处理层的性 参数名称 参数值 ［３］ 能，Ｎｉ多蚀刻性下降而Ｃｏ多则耐蚀性下降 ，因此镀 ＲＦ功率／Ｗ １１５０ 层中Ｎｉ、Ｃｏ元素含量的控制对铜箔性能及工艺研究 雾化器气体流量／Ｌ／ｍｉｎ ０．７ 都非常重要。 辅助气流量／Ｌ／ｍｉｎ ０．５ 镀层中金属元素含量测定方法主要有电子探针 蠕动泵速／ｒ／ｍｉｎ ５０ ［４］ ［５］ （ＥＰＭＡ） 、扫描电镜及Ｘ射线能谱分析 及化学溶 冲洗泵速／ｒ／ｍｉｎ １００ 解退镀法［６］。压延铜箔因其基体厚度薄（ ３５ ｍ）、 ≤ μ 分析泵速／ｒ／ｍｉｎ ５０ 镀层多且元素含量低，对仪器要求极为苛刻，故传统 镀层测试方法已不能够满足测试需求；火焰原子吸收 　　 ［７］ １．２　标准溶液及主要试剂 光谱法 虽然有比较高的灵敏度，但分析流程较长。 由于压延铜箔的铜含量 ９９．９５％，本文采用基体匹 盐酸、硝酸为优级纯，氢氟酸、高氯酸为分析纯， ≥