多弧离子镀制备tintialn多层薄膜性能研究 study on properties of tintialn multi-layer film deposited by multi-arc ion plating method.pdfVIP

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2017-09-04 发布于上海
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多弧离子镀制备tintialn多层薄膜性能研究 study on properties of tintialn multi-layer film deposited by multi-arc ion plating method.pdf

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多弧离子镀制备tintialn多层薄膜性能研究 study on properties of tintialn multi-layer film deposited by multi-arc ion plating method

第 53 卷第 6 期真空 VACUUM Vol. 53 ，No. 6 真空 VACUUM 第 53 卷 2016 年 11 月 Nov. 2016 多弧离子镀制备 TiN/TiAlN 多层薄膜性能研究马丽华 1 ，丁龙先 1 ，张弛 2 （1.沈阳大学机械工程学院，辽宁沈阳 110044; 2.常州星宇车灯股份有限公司，江苏常州 213001 ）摘要：采用多弧离子镀技术选取钛靶电流分别为 60A 、70A 、80A 和基体偏压分别为 -240V 、-300V 、 -360V 在高速钢基体上制备 TiN/TiAlN 多层薄膜。使用划痕仪、显微硬度计、摩擦磨损试验机和马弗炉对膜层的膜基结合力、显微硬度、摩擦磨损性能和热震性能进行检测。结果表明：在钛靶电流为 70A 和基体偏压为 -240V 时膜基结合力最高，同时显微硬度也较高；在基体偏压为 -300V 的条件下，钛靶电流为 70A 时的摩擦系数最小，其耐磨性能良好；基体偏压为 -240V 时的抗热震性能良好。关键词：多弧离子镀；TiN/TiAlN 多层薄膜；性能中图分类号：TB43 ；O484 文献标识码：A 文章编号： 1002-0322（2016 ）06-0066-04 doi ：10.13385/j.cnki.vacuum.2016.06.17 Study on properties of TiN/TiAlN multi-layer film deposited by multi-arc ion plating method 1 1 2 MA Li-hua , DING Long-xian , ZHANG Chi （1.College of Mechanical Engineering, Shenyang University, Shenyang 110044, China; 2.Changzhou Xingyu Automotive Lighting Systems Co. LTD., Changzhou 213001, China ） Abstract ： TiN/TiAlN multi-layer film was deposited on high speed steel by multi-arc ion plating technology. The samples were made by Ti target current of 60A, 70A and 80A, and substrate bias voltage of -240V, -300V and -360V. The adhesion strength, micro-hardness, friction and wear properties and thermal shock resistance of the film were checked up by scratch tester, micro -hardness tester, friction wear