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第 结 总 第二章 第二章 9 9 章 气相沉积法 气相沉积技术 气相沉积法 气相沉积技术 外部化学气相沉积法（OVD ） 外部化学气相沉积法（OVD ） 气相沉积法根据粉尘状物沉积方式和最终熔化为预 气相沉积法根据粉尘状物沉积方式和最终熔化为预 轴向气相沉积法（VAD ） 轴向气相沉积法（VAD ） 制棒方式的不同： 芯棒 制棒方式的不同： 芯棒 改进的化学气相沉积法（MCVD ） 改进的化学气相沉积法（MCVD ） 可分为棒外气相沉积法、改进的气相沉积法、等离 可分为棒外气相沉积法、改进的气相沉积法、等离 等离子化学气相沉积法（PCVD ） 等离子化学气相沉积法（PCVD ） 气相沉积技术 气相沉积技术 子气相沉积法、轴相气相沉积法。 套管法 子气相沉积法、轴相气相沉积法。 套管法 粉末法 优点：气相沉积法可以制造优质光纤, 粉末法 优点：气相沉积法可以制造优质光纤, 外包层 外包层 等离子喷涂法 等离子喷涂法 缺点： 但该方法所需原料昂贵、工艺复杂、光纤材 缺点： 但该方法所需原料昂贵、工艺复杂、光纤材 溶胶－凝胶 溶胶－凝胶 料品种单一。 料品种单一。 1) 化学气相沉积法( CVD-Chemical Vapor 2) 改进的化学气相沉积法( MCVD- 1) 化学气相沉积法( CVD-Chemical Vapor 2) 改进的化学气相沉积法( MCVD- Deposition) ) Deposition) ) Modified ) Modified ) 美国康宁公司1970 年首先得到 20dB/ km 的低损耗 美国康宁公司1970 年首先得到 20dB/ km 的低损耗 这一工艺由贝尔实验室在 1974 年开发出来, 被广泛 这一工艺由贝尔实验室在 1974 年开发出来, 被广泛