离子束加工的分类.PPTVIP

离子镀（离子溅射辅助沉积）：在镀膜时，离子同时轰击靶材和工件表面，目的是为了增强膜材（靶材）和工件基材之间的结合力。（如图C） 离子注入：较高能量的离子束，直接垂直轰击被加工材料，离子钻入被加工表面层，改变了工件表面材料的化学成分，从而改变了工件表面层的机械物理和化学性能。根据不同的目的选用不同的注入离子，如：磷、硼、碳、氮。（如图D） 离子束加工的特点： 是所有特种加工方法中最精密、最细微的加工方法，是纳米加工技术的基础。 是在高真空中进行，污染少，特别适用于易氧化的金属、合金材料和高纯度半导体材料的加工。 离子束加工是一种微观作用，宏观压力很小，所以，加工应力、热变性极小，加工质量高，适合于各种材料和低刚度零件的加工。 离子束加工设备费用贵、成本高，加工效率低。 二、离子束加工装置： 离子束加工装置与电子束加工装置类似， 包括： 离子源（用来产生离子束，常用的有：考夫曼型离子源和双等离子体型离子源） 真空系统 控制系统 电源等 离子源用以产生离子束流。产生离子束流的基本原理和方法是使原子电离。 具体办法是： 把要电离的气态原子（如氩等惰性气体或金属蒸气）注人电离室,经高频放电、电弧放电、等离子体放电或电子轰击,使气态原子电离为等离子体（即正离子数和负电子数相等的混合体）。用一个相对于等离子体为负电位的电极（吸极）,就可从等离子体中引出正离子束流。 根据离子束产生的方式和用途的不同，离子源有很多形式，常用的有： 考夫曼型离子源 双等离子管型离子源 三、离子束加工的应用： 目前用于改变零件尺寸和表面物理力学性能的离子束加工有： 用于从工件上作取出加工的离子刻蚀加工 用于给工件表面涂覆的离子镀膜加工 用于表面改性的离子注入加工 刻蚀加工：离子刻蚀是从工件上去除材料，是一个撞击射溅过程。（当离子束 轰击工件时，射入离子的动量传递到工件表面的原子，传递能量超过了原子间的键合力时，原子就从工件表面撞击溅射出来，达到蚀刻的目的，）可认为是逐个原子的剥离。刻蚀速度很低，其分辨率可达微米级甚至亚微米级。 为了避免射入离子与工件材料发生化学反应，必须使用惰性元素的离子，通常用氩离子进行轰击刻蚀。 刻蚀加工时，对离子入射能量、束流大小、离子入射到工件上的角度、工作室气压等都能分别调节控制，以上参数应根据不同加工需要进行选择。 用氩离子轰击被加工表面时，其效率取决于离子能量和入射角。 刻蚀率随能量增加而迅速增加，能量增大到一定程度后再增加刻蚀速率逐渐减慢。 刻蚀率随入射角增加而增加，但入射角增大会使表面有效束流减小，入射角在400—600时刻蚀率最高。 离子刻蚀的应用： 离子刻蚀用于加工陀螺仪空气轴承和动压马达的沟槽效果很好。加工非球面透镜能达到别的加工方法所不能达到精度（图 6-11） 刻蚀高精度的图形，如集成电路、声表面波器件、磁泡器件、光电器件和光集成器件等微电子学器件亚微米图形。 用离子束轰击已被机械磨光的玻璃，可得到极光滑的表面。 玻璃纤维用离子束轰击后，变为具有不同折射率的光导材料。等 镀膜加工: 离子镀膜加工有溅射沉积和离子镀两种 离子镀时，工件受到靶材和离子的同时轰击，使得离子镀膜具有许多独特的优点： 附着力强、膜层不易脱落；用离子镀的方法对工件进行镀膜时，其绕射性好，使基板所有暴露的表面均能被镀复。 离子镀技术已用于润滑膜、耐热膜、耐蚀膜、耐磨膜（刀具镀膜氮化钛、碳化钛）、装饰膜（手表镀膜氮化钛、工艺美术品等）和电器膜等。 三、离子注入加工 离子注入是向工件表面直接注入离子，它不受热力学的影响，可以注入任何离子，且注入量可以精确控制，注入的离子是固溶在金属材料中，含量可达10%--40%，注入深度可达1微米甚至更深。 离子注入是制作半导体器件和大面积集成电路的重要手段 离子注入可以改变工件表面性能，如改善金属表面的抗蚀性能、抗疲劳性能、润滑性能、和耐磨性能等。 总之，离子注入的应用范围在不断扩大，今后将会发现更多的应用。 补充： 电子束“毛化”技术是一种新型电子束表面加工技术， 它借助于电磁场对电子束进行复杂扫描控制而在金属材料表面产生特殊的成型效果,是在复杂磁场控制下电子束使金属快速熔化、 流动、 堆积和凝固的复杂冶金过程。该技术在真空环境中， 通过快速响应偏转线圈并用复杂信号控制程序精确控制电子束流， 使其按照某种特定的方式、 特定的规律、 一定的速