一种测量纳米薄膜厚度的新方法.pdfVIP

第30卷第6期 重庆大学学报(自然科学版) V01．30No．6 of Science 2007年6月 Joumal Jun．2007 Chongqinguniversity(NQturcLlEdition) 文章编号：1000—582X(2007)06—0035—04 一种测量纳米薄膜厚度的新方法 喻江涛8，李明伟讪，王晓丁8，程昊8 (重庆大学a．动力工程学院；b．“985工程”二期建设“生物功能信息分析与仪器研究中心”，重庆400030) 摘要：提出了一种量测纳米薄膜厚度的方法，即根据纳米薄膜与其基底间存在的力学性质上的差 异，选用合适的刻划工具，通过对薄膜直接进行刻划，产生划透薄膜且不影响基底的划痕，再运用原子力 显微镜扫描，得到划痕区域的微观形貌，由此计算出纳米薄膜的厚度。用该方法对TiO：纳米薄膜进行 测量，得到薄膜的平均厚度为71．6nm，与相关文献报道的用其它方法测得的薄膜厚度值较吻合。作为 测量纳米薄膜厚度的又一方法，此法具有适用范围广，厚度图像直观，操作和计算均较为简单，精度较高 的特点。 关键词：纳米薄膜厚度；原子力显微镜；划痕处理；测量 中图分类号：0484．5 文献标志码：A 纳米薄膜，由于其独特的物理特性和化学特性及易 行合适的迭代等M～7。。台阶仪测厚法是测量纳米薄膜 于制作成宏观的纳米材料器件，正成为纳米学研究中的 厚度的较先进的方法，其测量精度高，厚度图像可直接 热点，某些方面已投入社会应用并大大推动了人类科学 观察到，但对所测膜样品要求高，如：有机薄膜的测 技术的发展，如利用纳米磁性薄膜的巨磁电阻效应而开 试哺o。需经过复杂的工序形成符合要求的台阶才能 发的纳米结构器件于199r7年在美国问世后¨。，即将磁存量测。无机薄膜的测试，形成所要求的台阶，其工作也 储，磁记忆和计算机读写磁头等技术向前推进了一大步。 相当繁琐一J。通过划痕处理结合原子力显微镜测试 目前，利用巨磁电阻效应而生产的读出磁头年均产值已 纳米薄膜厚度，从目前笔者所掌握的资料来看，未见有 逾100亿美元。而薄膜的厚度直接影响着其使用特|生，几 乎所有的薄膜性质都与膜厚有关，如上述巨磁电阻效应 时，尝试用此法量测出了膜的厚度，从而为纳米薄膜厚 只有当薄膜厚度在某一范围内时才会出现u1。又如目前 度的测试提供了又一较为实用的方法。 研究热点之一的Tio：纳米薄膜，其也是在某一厚度附近 l膜厚测试原理 有最佳的光催化潘|生旧。5J。故对于纳米薄膜而言，其膜厚 的测定和控制非常重要。 基本原理是根据纳米薄膜与其所附基底在力学性 传统测量薄膜厚度的方法有：称重法、电学方法、 质上存在的差异，先在膜片上刻下划透薄膜而又不会 光学方法和用台阶仪测厚的方法等。称重法中，要用 在基底上产生塑性变形的微小痕迹，再利用原子力显 块体材料密度代替膜密度才能最终计算出膜厚值，这 微镜可以探测纳米级三维微观形貌的特点，通过测量 对于膜、块体密度相差较大的材料而言，所得膜厚与实 划痕区域的微观形貌而直接测量出薄膜的厚度。其 际情况比较显然有较大误差。电学方法中，由于要用 中，划痕的产生是测量的前提和关键。 块体材料电阻率代替膜电阻率，故同理使其应用范围 1．1划痕产生条件 也颇受限。光学方法中，现在较多使用的是椭圆偏振 1．1．1 划痕产生过程的应力分析 法，但在测量透明度不高的薄膜时，其测试方法和所需