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使用红外干涉仪测量锗材料折射率均匀性.pdf
第32卷第3期 中 国 激 光 V01．32，No．3
2005年3月 CHINESEOURNALOFLASERS Ma”}1，2005
J
03
文章编号：0258—7025(2005)03一0404
使用红外干涉仪测量锗材料折射率均匀性
陈 磊，王 青，朱日宏
(南京理工大学电子工程与光电技术学院，江苏南京210094)
摘要介绍了运用工作波长为10．6Mm的红外干涉仪测试红外光学材料(锗晶体)的折射率均匀性的方法。运用
传统的干涉法检验光学材料的折射率均匀性时，由于锗晶体太软．表面不易加工，其表面面形难以满足测试要求。
为了消除面形偏差对折射率均匀性偏差测试的影响，使用可见光移相式数字平面干涉仪精确测试被测样品的面形
偏差，该干涉仪具有很高的测试精度，其测量不确定度可以达到A／50(A=o．633“m)。然后在红外干涉图数据处
理中将样品的面形偏差扣除，得到样品折射率的偏差分布。对锗单晶材料进行了实际测试。
关键词测量与计量；红外材料；折射率；均匀性；干涉仪
TN 247 文献标识码 A
中图分类号 213：TN
of of
Measurementthe RefractiVeIndexof
Homogeneity
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Germanium Interferometer
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Lei，WANG
Qing，ZHURi—hong
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Abstract material，
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