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衍射光栅-Diffraction Gratings  Optometrics公司有着四十多年衍射光栅设计和生产经验，在工业，教育，科研领域为各种各样的应用 提供广泛的光栅选择。Optometrics公司自身的刻划技术能力以及生产和开发全息实验室，为客户应用提供 最佳光栅选择。 用于光谱仪器的标准光栅包括刻划和全息复制两种。激光应用的标准光栅包括：用于分子激光器的高损 伤阈值原始和复制光栅，用于染料激光器的全息掠入射光栅以及阶梯光栅。 Optometrics公司衍射光栅产品线最新增加了透射光栅和反射/透射“Polka-dot”分束器。   Optometrics增加3D纳米成像对衍射光栅进行优化  原子力显微镜为衍射光栅生产提供了新的优化基准 Optometrics 公司最近为其计量体系增加了扫描原子力显微镜（AFM），对衍射光栅优化设计中涉及的 纳米测量，特性描述，操作处理技术树立了新的标杆。AFM增强了Optometrics对OEM客户的特殊支持 和服务。 AFM是Optometrics使用的几种精密制造和工程计量工具中的一种，用于了解光栅表现的缘由。在准 备生产新的母光栅时，AFM通常用于对光栅刻槽的尺寸，形状，以及角度进行确认。同时作为取证工具用于 帮助发现光栅性能异常原因。 当用金刚石刀刻划或全息方法制作一个新的母光栅时，通过高分辨率成像工具检察，可以确认微观刻槽 的形状和纹路是否优化和符合设计要求。下面是Optometrics生产的衍射光栅扫描图像。图像1为全息记录 的1200刻线/mm紫外闪耀光栅。注意由AFM获得并确认的高清晰槽纹剖面。图像2为2180刻线/mm全 息记录衍射光栅正弦槽纹剖面。  北京，酒仙桥东路1号，M7 栋，东5层, 邮编：100015 Tel: 010-8809 6218, 8809 6099 Fax: 010 zhangweibin@ 在众多光谱仪器设计中，衍射效率和动态范围是至关重要的参数。了解为什么一个特定的衍射光栅可能 有一个小的但却是必然的性能差异，对仪器设计的成功是很重要的。 通常许多衍射光栅只是简单说明其原本的制作方式，刻线频率和闪耀波长(如市面上通常标明的每毫米 600刻线及闪耀波长400nm的刻划式光栅)。但是，不是所有刻划式的600刻线/mm闪耀波长400nm的 光栅都相同。同样，用于复制光栅的“母光栅”会由于刻槽面的大小，形状或位置的异常，而导致性能的相 互差异。正如下面两种不同的每毫米600刻线及400nm闪耀波长母光栅的衍射效率曲线所示，这些纳米级 的差异可能在或窄或宽的光谱范围内显著影响光栅性能。                                         北京，酒仙桥东路1号，M7 栋，东5层, 邮编：100015 Tel: 010-8809 6218, 8809 6099 Fax: 010 zhangweibin@ 衍射光栅背景和技术  光栅是在镀有反射膜的基片上，由一系列等距平行刻线组成的光学器件。邻近刻线的距离以及刻线相对 于基底的角度会影响光栅的色散和效率。如果入射波长远大于刻线间距，就不会发生衍射现象。如果入射波 长远小于刻线间距，光栅刻面只能对入射光进行反射，衍射现象也不发生。 根据光栅刻线的成型方式可以将光栅分为两种基本类型，全息光栅和刻划光栅。刻线光栅由钻石刀头的 刻划