钨铜基电镀铝层阳极氧化后的组织和性能研究.pdfVIP

第32卷 第1期 江 西 科 学 V01．32No．1 2014年 2月 JIANGXI SCIENCE Feb．2014 文章编号：1001—3679(2014)01—0057—06 钨铜基电镀铝层阳极氧化后的 组织和性能研究 谭敦强 ，陈 强 ，李亚蕾 ，陆 磊 ，陆德平 (1．江西省科学院应用物理研究所，江西 南昌330029；2．南昌大学材料科学与工程学院，江西 南昌330031) 摘要：采用直流草酸法对镀铝层进行阳极氧化 ，研究了氧化电压和氧化时间对氧化层表面形貌、组织结构及表 面绝缘性的影响。采用金相显微镜对镀铝层和氧化层表面形貌进行观察，扫描电镜和x射线衍射仪分析镀 铝层和氧化层的成分与结构，并对其硬度进行测试，探索钨铜箔片上制备氧化铝的最佳工艺。实验现象表明： 经过阳极氧化处理后，氧化层表面致密平滑，由非晶A1，O 和Al相组成，电绝缘性能良好 ；氧化铝膜的硬度随 着氧化时间呈现先增加后降低，最后趋于稳定的趋势；而氧化铝膜的硬度随着氧化电压增大而增大。当氧化 电压控制在 30V，氧化时间在 3—6h时，最有利于氧化膜的形成，且膜厚呈增大趋势。 关键词：阳极氧化 ；氧化膜；表面形貌 ；硬度；绝缘性 中图分类号：TG178 文献标识码 ：A StudyonStructureandPerformanceoftheAICoating SurfaceonW ．CUSubstrateafterAn0dic0xidati0nTreatment TANDun—qiang ，CHENQiang，LIYa．1ei，LULei，LUDe．ping (1．InstituteofAppliedPhysics，JiangxiAcademyofSciences，JiangxiNanchang330029PRC； 2．MaterialScienceandEngineeringAcademy，NanchangUniversity，JiangxiNanehang330031PRC) Abstract：TheanodizeddielectricfilmsonthesurfaceofAlcoatings曲eranodicoxidationtreatment inethanedioicacidwerereposedinthiswork．Effectsofelectricvoltageandanodictimeonsurface morphology，structureandsurface insulativityofthefilmswerestudied．Resultsshowedthat，after treatment，thesurfaceparticlesbecameflocculent，smoothandagoodconnectionbetweenthem．The sizeofholesonthesurfaceofanodizedfilm increasedasanodictimepassed，thesurfacemicro—hard— nesswassignificantlybiggerthanbefore，andastimepassed，itfirstlyincreased，thendecreased，fi— nallystabilized，butthemicro-hardnessalwaysincreasedwiththeelectricvoltageincreasing．Thean— odizeddielectricfilm surfacehadagoodinsulativity，andwhenelectricvoltagewas30V，thethick— nessofanodizedfilmsexhibitedatendencyofincreasing，whichwasgoodfortheformation ofano- dizedfil