铟锡氧化物透明导电薄膜的制程技术及其应用.ppt

目前ITO薄膜主要被使用於液晶顯示器（Liquid Crystal Display，LCD）之透明導電電極材料上;但由於上述之光學特性。 未來具有被當作省能源用之熱線反射膜塗佈在門窗之玻璃上。日本為當前世界最大ITO薄膜製造國，其產量隨著LCD的成長，已由1985年之100萬平方米，增至1991年之1000平方米；未來隨著LCD及其他顯示器（如electroluminescent display）之持續成長以及熱線反射玻璃之應用，其發展潛力及重要性將不容忽視。 附錄: 參考資料 :實驗七 銦錫氧化物導電薄膜溶膠凝膠法製備及鑑定 ITO薄膜之優良導電特性主要來自於錫的摻雜( Tin-doping )及氧的空位( oxygen vacancy )兩種帶電載子( charge carrier)之存在而大幅提昇其導電度。ITO薄膜中，銦錫氧化物因錫的摻雜，而使得其晶格中部份位置之銦原子被取代。由於錫之價電子比銦多1，當每個錫取代銦，便可多放出一個電子，因此錫以n-type donor的方式來提高銦錫氧化物之導電性。氧的空位在ITO薄膜中，因晶格氧的位置沒有填補，而使得該鍵結之兩個電子釋出形成自由電子，因此氧的空位亦以n-type donor的方式來提高銦錫氧化物之導電性。 附錄: 參考資料 :實驗七 銦錫氧化物導電薄膜溶膠凝膠法製備及鑑定 * * 第 六 章 銦錫氧化物透明導電薄膜的製程技術及其應用 參考資料： 1.平面面板顯示器 基本概論 二版 顧鴻壽/周本達/陳密 /張德安/樊雨心/周宜衡 編著 出版者：高立 書號：232526 發行日期：2005年8月 2.顯示器原理與技術 趙中興 編著 出版者：全華 書號：03185-01 發行日期：1999 6-1 前言 6-2 銦錫氧化物透明導電薄膜的材料及其特性 1. 銦錫氧化物透明導電薄膜的材料種類 2. 銦錫氧化物透明導電薄膜的結構及其特性 6-3 銦錫氧化物透明導電薄膜的製作流程技術 1. 銦錫氧化物透明導電薄膜的製造流程及其技術 2. 銦錫氧化物透明導電薄膜的觸控面板製程技術 6-4 銦錫氧化物透明導電薄膜的應用領域與未來展望 6-1前言 *在平面面板顯示器的發展過程中，銦錫氧化物透明導電薄膜 是顯示器面板製程中非常重要的技術項目，其薄膜的物理特性 將深深地影響到最終產品顯示器的畫質及其價位。 *銦錫氧化物透明導電薄膜的主要功能是在於其極佳的電極材料 而應用於平面面板顯示器，具有發熱、熱反射、電磁波防止 和靜電防止等不同的用途。 *早期液晶顯示元件的發展過程中，主要的電極材料是金(Au) 和氧化錫(SnO2)，爾後開發出目前常用的氧化銦和氧化錫的 混合物(In2O3-SnO2)，此乃因為銦錫氧化物薄膜具有很高的 透明度和導電特性。 6-1前言 *液晶顯示元件的發展，也就是由被動式矩陣驅動向列型(TN) /超扭向型(STN)液晶顯示器，推向主動式矩陣驅動薄膜電晶體 液晶顯示器，並更加發展至所謂的新世代的顯示器，-有機電 發光顯示器或有機發光二極體(OLED)，無論如何發展而銦錫 氧化物薄膜的重要性並無任何地變化。 *使用於液晶顯示器的ITO膜，不僅作為透明的畫素電極之功能 而且也作為簡單矩陣型STN-LCD的掃描電極和信號電極，以及 主動型TFT-LCD 的共通電極和陣列電路中配線之重要角色， 隨著彩色化、高解析化和人機界面化(觸控面板)，促使相關液 晶顯示器和其它平面顯示器的成長快速。 *一般平面顯示器的透明電極用的透明導電膜，大多是以銦錫氧化物(ITO)為靶材，而使用濺鍍法製作而成 6-2 銦錫氧化物透明導電薄膜的材料及其特性 6-2.1銦錫氧化物透明導電薄膜的材料種類 *平面顯示器的種類，表示方式和表示畫質的不同，而相對地對其顯示性能的要求也就有所差異。目前的透明導電材料之種類，有金屬薄膜、金屬氧化物、非金屬氧化物以及導電性顆粒 分散鐵電材料，其中以金屬氧化物薄膜為主。薄膜的型式則是單層膜、二層膜、多層膜或複層膜、無掺雜型、掺雜型和多元素型。 *目前透明電極之種類，有金屬薄膜、金屬氧化物、非金屬氧化物以及導電性類粒分散鐵電材料 *薄膜的型式則有單層膜、二層膜、多層膜、無掺雜型、掺雜型和多元素型 *透明導電膜的材料，以氧化錫中掺雜氧化銦的薄膜，氧化錫、氧化鋅以及氧化銦/氧化鋅(IZO)也是下一個新研發的透明導電薄膜材料 6-2.1銦錫氧化物透明導電薄膜的材料種類 *ITO透明導電膜可區分為ITO膜和IT膜。 *銦錫薄膜的靶材是