基于体硅工艺的静电致动微夹持器制作工艺分析.pdfVIP

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2018-04-07 发布于北京
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基于体硅工艺的静电致动微夹持器制作工艺分析.pdf

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第卷第期光学精密工程 Vol . 11 No. 2 11 2 年月 A r . 2003 2003 4 0 ptics and Precision Engineering p 文章编号（） 1004-924X 2003 02-0109-05 基于体硅工艺的静电致动微夹持器制作工艺分析李勇，李玉和，李庆祥，訾艳阳（清华大学精密仪器与机械学系，北京 100084 ）摘要：介绍了一种基于体硅工艺的大尺寸、大深宽比梳状静电致动微夹持器的制作工艺。对微夹持器制作中的关键工艺进行分析，重点分析ICP 蚀刻工艺的蚀刻时间对结构的影响，总结导致器件失效的原因，探讨了减少失效的方法。加工过程中采用分步加工的办法控制蚀刻时间，成功的释放了宽6 m ，厚60 m ，等效长度达5 470 m 的悬臂梁型微夹持 ! ! ! 臂。研制出一种良好性能的具有形柔性结构夹持臂的梳状静电致动微夹持器。 S 关键词：体硅工艺；电感耦合等离子体；蚀刻；微夹持器中图分类号：；文献标识码： TN305 . 2 TP241 A Fabrication rocess anal sis for electrostaticall actuated p y y micro ri er based on silicon bulk micromachinin g pp g ，，， LI Yong LI Yu-he LI Ging-xiang ZI Yan-yang （， DePartment of Precision instruments and mechanology ，，） Tsin hua unioersit Bei in 100084 China g y J g ： Abstract The fabrication rocess of a comb-drive electrostaticall actuated micro ri er based on silicon p y g pp bulk micromachinin is described in detail， g With the effect of ICP etch time on structure anal sed . Some