反应磁控溅射离子镀设备中的关键组件和新技术进展研究.pdfVIP

第七届广东省真空学会学术研讨会论文集 反应磁控溅射离子镀设备中的关键组件和新技术进展 刘阳 (北京实力源公司) 摘要：本文结合五金钟表和个人电子用品行业的市场要求，对反应磁控溅射离子镀膜设备中的磁控溅射靶、磁控 溅射电源、脉冲偏压电源、离子源及测控装置等关键组件的参数和特性进行详细介绍，对镀膜设备整体设计进行 分析，并就其在五金(含塑胶)、手表眼镜等行业的应用效果进行逐项说明。对真空镀膜行业的设备选型和工艺 开发提供一定参考。 1前言 1．1反应磁控溅射镀膜逐渐取代电弧离子镀成为五金手表等行业主要的镀膜技术。 1．2反应磁控溅射镀膜技术应用中的主要问题和基本对策。 2反应磁控溅射镀膜设备的关键组件 2．1磁控溅射靶：矩型靶、圆柱靶、定向发射柱状靶 定向发射柱状磁控溅射靶的优点： a．工作稳定、不易打火 b．散热效果好、功率大 C．靶材利用率高、降低运行成本 d．维护简便、提高生产效率 ，Ic具有在线清洗功能的磁控溅射靶(专利技术) a．在反应镀膜过程中对靶材进行实时清洗，避免化合物膜层沉积 b．可在高反应气体浓度环境中长时间稳定工作 C．可取消反应工作点反馈控制系统，实行开环镀膜控制 d．清洗功能可独立使用，用于靶材表面预清洗 2．2磁控溅射电源：直流电源、脉冲电源、中频交流电源 中频交流脉冲磁控溅射电源的选择： a．输出类型：正弦、方波、组合方波正弦输出稳定柔和干扰较小，方波输出可进一步提高 离化率，组合方波输出可降fBJ：ft-温升 b．控制模式：恒流、恒功率 恒流模式简单易实现，但对大多数种类靶材的工作点稳定不利。 恒功率模式相对较复杂，但在很多情况下有一定的电流补偿功能、可有利于工艺稳定 2．3偏压电源：赢流偏压、单极脉冲偏压、双极脉冲偏压 脉冲偏压的优点： 60 反应磁控溅射离子镀设备中的关键组件和新技术进展 a．高速灭弧； b．低温沉积； c．成膜快、部分消除液滴 双极脉冲偏压电源的优点： a．去极化，消除打弧； b．增加离化，提高成膜速度： C．有效改善绝缘膜层结合力。 2．4辅助离子源：柱状电弧源、气体离子源 柱状电弧源复合磁控溅射镀膜的优、缺点： a．增加金属离子轰击，有效改善结合力； b．提高离化率，加快成膜速度，提高工艺稳定性； C．使用简便，成本低，适合大批量五金工件生产： d．仍有部分液滴产生，对高品质膜层有影响。 2．5气体离子源：霍子源、条状阳极源等 条状阳极源辅助磁控溅射镀膜的优、缺点： a．对工件进行预清洗，改善结合力 b．增加反应气体离化率，辅助成膜，提高工艺稳定性 c．无灯丝，维护简单运行稳定 d．成本较高，离子能量偏高，对工件有一定损伤 3反应磁控溅射镀膜机的系统设计 3．1标准化设计提升品质 a．电源设计规范化：输入、输出端子，远控接口及冷却水接口等规格统一，机箱尺寸符合国 际标准，安装维护方便。 b．系统接口统一化：溅射靶(矩型、圆柱)、电弧靶(圆柱)、离子源(长条)与真空腔体接 口一致(由85mm)，水、电、气接口统一，方便变换系统布局结构。 C．设备布局一体化：设备采用欧洲标准一体化机柜，有效组合各系统，安装维护方便明了， 节省安装空间，有效提升高洁净环境使用效率。 3．2系统布局保证工艺稳定性 独特的真空腔体内部布局设计(专利技术) a．有效调节反应气体分布，避免形成靶中毒 b．通过不同的靶位搭配，获得多层复合结构 6l 第七届广东省真空学会学术研讨会论文集 C．可用单质靶材得到合金化合物薄膜 3．3在线检测自动控制和远程监控系统 a．在线颜色测量系统：实时测量标准工件的颜色，进行工艺控制，特别适合大批量生产的规 范企业。 b．PLC与IPC相结合的自动控制系统适应不同用户需求 C．远程监控系统可帮助企业提高生产效率，同时缩短支持维护反应时间 4应用效果说明 4．