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- 2018-01-17 发布于天津
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第卷第期光学精密工程年月文章编号一胶紫外光刻的尺寸精度研究杜立群秦江刘冲朱神渺李园园大连理工大学精密与特种加工教育部重点实验室辽宁大连大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室辽宁大连摘要研究了衍射效应对一胶紫外光刻尺寸精度的影响根据菲涅耳衍射理论建立了紫外曝光改进模型预测微结构的尺寸分析了光刻参数变化对尺寸的影响为了更好地与数值模拟结果进行比较以硅为基底进行了胶紫外光刻的实验研究实验分四组实验中掩模的特征宽度分别取和胶表面的曝光剂量取用扫描电镜测量了微结构的顶部线宽底部线宽和一胶的厚度用软件
第 15卷 第 4期 光学 精密工程 Vo1．15 No．4
2007年 4月 OpticsandPrecisionEngineering Apr．2007
文章编号 1004—924X(2007)04—0447—06
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