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第26卷,第8期 光谱学与光谱分析
2O06年8月 and Analysis August,2006
SpectroscopySpectral
邛崃窑彩绘瓷彩绘工艺的SRXRF研究
栾天,毛振伟,王昌燧
中国科学技术大学科技史与科技考古系,安徽合肥230026
摘要邛崃窑彩绘瓷的彩绘技法,是考古学家和陶瓷专家十分关心而又长期争论、至今未有定论的问题。
文章采用SI己》(RF方法,对邛崃窑古瓷残片剖面进行了线扫描分析,着重探讨了彩料与瓷釉的相对关系,结
果发现古代邛崃窑彩绘瓷器中既有釉上彩又有釉下彩,这对我国古代瓷器彩绘工艺的发展具有一定的参考
价值。
主题词SRxRF;邛崃窑;线扫描分析;彩的致色元素
中图分类号:0657.3文献标识码:A 文章编号:1000—0593(2006)08—1560—04
测试条件为:同步辐射装置提供高强度X光源,其X射
GeV,
引 言 线能量范围为3.5~22.9keV,储存环束流能量为2.2
流强为130~60mA。入射光束狭缝20
pm×2肛m。用Si(“)
邛崃窑是中国古代的著名民窑,位于四川邛崃市境内,
主要包括南河十方堂,固驿瓦窑山,白鹤大鱼村,西河尖山 样品的X射线荧光光谱,探测器探测方向与样品检测面成
子等古瓷窑遗址。邛崃窑始烧于南北朝,兴盛于唐,衰落于 nⅡn。
45。,与入射光束成90。,探测器铍窗到样品的距离为80
南宋中、晚期[13:邛崃窑瓷器以青釉、褐斑青釉、褐绿斑青 测试前,先在400倍体视显微镜下校准样品位置,使x射线
釉和彩绘瓷为主,是四川青瓷窑的代表,中国彩绘瓷的发源 准确地照射于选定的样品区域。谱的收集和分析采用AXIL
s,采用平滑滤波法扣除本底。
地,其彩绘瓷的生产时间最长,并影响着后世彩绘瓷的发 软件,每个谱的收集时间200
展[2]。目前,学术界研究邛崃窑瓷器的文章不算少,也有一 1.2样品来源
些结构和成分的分析工作。而关于彩绘瓷的彩绘工艺,学术 邛崃窑彩绘瓷片样品采集于十方堂窑址发掘现场,由四
界观点不一,颇有争论,有人认为是釉上彩,有人认为是釉 川省邛崃市文物局提供。从众多样品中选择四块,编号依次
下彩,也有人认为既有釉上彩又有釉下彩,还有些欧洲学者
的地方釉层已剥落,露出了化妆土,彩绘大多为圆点或小块
认为是釉中彩[3]。本文采用SRxRF43探针技术,对邛崃窑彩
绘瓷残片进行了线扫描分析,根据其彩料在釉层中的位置, 状,基本呈绿色或褐色。其中,L3待测处的彩为绿色,L7待
较为深入地探讨了釉上彩和釉下彩的问题,得出了较为明确 测处的彩为褐色,L8选了两处有彩的地方待测,一为褐色,
的结论。 另一为淡绿色,L9待测处彩为褐色。其外形、尺寸、待测处
的位置和色泽示于图1。
1实验部分 1.3样品测试
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