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凹型si微透镜阵列的制作
Vo1．2l，No1
第2l卷第1期 红外与毫米波学报 Vol. 21, No.1
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February，2002
2002年2月 J. Infrared Millim. Waves February, 2002
J Infrared Millim．Waves
凹型Si微透镜阵列的制作
何 苗 易新建 程祖海
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(华中理工大学激光技术国家重点实验室，湖北，武汉，430074)
刘鲁勤 王英瑞
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( f1N1lit :K.~ 2- llJ=1!iO 25 JJi. ~~)j(, 100854)
(中国航天总公司二院25所，北京，100854)
摘要 提出了一种斯的凸率倒彝法首次成功地在s衬底上制作出64x256凹柱面折射徽透镜阵列，扫描电子显擞
1IlJr: jt til T - ;(1ilf ellilk ~WI ~ itit k;\ Ji] !\!\.i£ s it!it 1.,I if :h 64 ... 256 I!l tt Iitift! ~itil$ ?iL j3 JU. -t jut
镜(SEM)显示微遗镜阵列为表面轮廓清晰的凹柱面阵 ，表面探针测试结果显示凹微透镜阵列表面光滑、单元重
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复性好，其平均凹深为2 643t~rn，凹深非均匀性为8 45％．平均焦距为一47 08t~rn．
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关键词 ，凹徽透镜阵列，氩离子柬割蚀
FABRICATION OF Si CONCAVE MICROLENSES ARRAY
FABRICAnON OF Si CONCAVE MICROLENSES ARRAY *
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