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準分子雷射加工系統 張仁宗 教授 國立成功大學 機械系 90.8.20 準分子雷射微細加工課程 大綱 一﹑一般系統特性 二﹑光源與傳送系 三﹑光罩與掃瞄系 四﹑加工平台系 五﹑成品與誤差 準分子雷射微細加工課程 一﹑一般系統特性 光蝕刻技術 準分子雷射加工 Exitech PS-2000系統 準分子雷射微細加工課程 光蝕刻技術 微蝕刻技術 物件材料﹑尺寸﹑外形要求 光源﹑離子束等選擇 乾式﹑濕式選擇