氮化铀薄膜的制备及性能研究-西北有色金属研究院.PDFVIP

第44 卷 第8 期 稀有金属材料与工程 Vol.44, No.8 2015 年 8 月 RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERING August 2015 氮化铀薄膜的制备及性能研究 陆 雷，肖 红，李芳芳，钟永强，白 彬，刘柯钊 ( 中国工程物理研究院，四川 绵阳 621900) 摘 要：开展了氮化铀薄膜射频制备及薄膜性能研究，通过优化氮化铀薄膜的制备工艺条件，成功在 Si 基片上制备了 氮化铀薄膜，并利用扫描电镜、原子力显微镜、X 射线电子衍射、俄歇电子能谱仪和 X 射线光电子能谱对氮化铀薄膜 进行了表面形貌和结构组分分析。结果表明：利用射频磁控沉积法制备的氮化铀薄膜为比较平整和致密的U N 和UN O 2 3 x y 的混合相组成，具有一定的抗氧化腐蚀性能。 关键词：氮化铀；薄膜；磁控溅射 中图法分类号：TG 146.8 文献标识码：A 文章编号：1002- 185X(2015)08- 1975-04 铀是化学性质极其活泼的金属，在大气环境中极 能的探索实践。 易发生氧化反应，甚至在室温和真空条件下，铀表面 1 实 验 都能生成氧化膜。为了提高铀的耐腐蚀性能，通常是 在不改变或降低其性能的前提下，在材料表面沉积致 利用射频磁控溅射制备氮化铀薄膜，通过改变Ar 密的保护膜，以阻止外界环境对基底材料的腐蚀。在 和N2 气分压，优化氮化铀薄膜质量，获得氮化铀薄膜。 长期贮存过程中，铀与包覆材料的界面稳定性将直接 氮化铀薄膜的射频磁控溅射沉积工艺流程：采用的铀 影响到材料的结构和性质。近年来，关于薄膜与基底 靶为低碳贫铀 Φ25.4 mm×3 mm ，将Si 基片用丙酮、 [1-3] 界面反应，国内报道较多 。 去离子水依次超声波清洗 10 min，烘烤干燥后送入磁 铀表面层的改性处理，是提高铀的抗腐蚀性能的 控溅射沉积室。在开启机械泵状态下通入Ar 气清洗管 另一种方式。改变铀表层化学成分，通过渗 N 手段 道，重复3 次。遮挡样品，在Ar 分压7 Pa 下，清洗 将表面纯金属铀转变为氮化物以提高抗腐蚀能力，这 些方法可使改性层的结构平缓过渡到铀基体，保持较 U 靶30 min ，射频功率均为100 W 。沉积薄膜时，先 好粘附性。是极具潜力的研究方向。但也存在改性层 将Ar 分压调至4 Pa ，分别通入N2 ，将气压分别调为 [4] 2 和4 Pa 等，打开基片挡板，沉积氮化铀薄膜 1 h 。然 厚度不够等问题。Arkush 等 利用离子注入对铀表面 分别进行N2+ 注入后发现铀表面形成了一种氮的浓度 后，取出氮化铀薄膜样品，进行氮化铀表面的宏微观 梯度膜，梯度膜结构增大了膜基结合力，氮化层具有 形貌、组分和结构分析等。 优异的抗氧腐蚀能力，即使放置4 年表面氧化层的厚 实验中利用了荷兰Empyrean 锐影X 射线衍射仪 度也小于 5 nm ，但其氧化机制是否基于氧原子对氮 （XRD ）、美国热电公司ESC