PECVD-工艺文件.docVIP

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  • 2018-05-28 发布于河南
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PECVD-工艺文件

PECVD名词 化学全名:Microwave Remote Plasma Enhance Chemical Vapour Deposition 中文解释:微波间接等离子增强化学气相沉积 二,PECVD原理 等离子体:由于物质分子热运动加剧,相互间的碰撞就会使气体分子产生电离,这样物质就会变成自由运动并由相互作用的正离子、电子和中性粒子组成的混合物。通常被称为物质的第四态。等离子体的性质:具有活泼的化学反应性,拥有大量的中性基团,类似于金属的导电性质。 等离子体的形成: 微波功率从微波源输出后,传输到等离子体反应腔,在高压击穿的情况下激发携带气体或低压反应气体。气体分子一旦被加热,X和Y间的振动就会变得剧烈。当振动能超过结合能时,就会使用分子离解。如:Si-H键,N-H键 若碰撞电子的能量足够高,分子中绕核运动的低能电子,就会在碰撞中获得充足的能量,使其脱离核的束缚而成为自由电子,即分子发生了电离。 SiN膜的沉积: 利用硅烷(SiH4)SiH4+NH3 SiNH+3H3 2SiH4+N2 2SiNH+3H3 此氮化硅并不是严格化学配比的氮化硅,而是含有大量的氢(20%--25%原子个数百分比),氢原子的含量与氮化硅的沉积温度成反比。 影响SiN膜的参数:反应温度,反应功率,气体流量. 三,PECVD的作用 1,减反膜 在太阳电池表面沉积深蓝色

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