酞菁光盘染料的合成、表征及功能性应用的研究（可编辑）.docVIP

酞菁光盘染料的合成、表征及功能性应用的研究 , 位置、数量与基本物理、光物理性质之间的关系。佐有机溶剂中的低溶解度使得大 多数酞菁染料不能满足实用化的要求。另外,酞菁染料的最大吸收波长、熔点、热失 重等基本的性质也是酞菁染料实用化要考虑的基本因素。在众多酞菁染料的相关文章 , 中,多数酞菁染料周边苯环上的取代基都是直链烃基和直链烷氧基√本文的研究重点 / 则是歧化度更高的取代基。因此,我们选择了几种位阻较小的卤代烷正丁基溴、仲 、 丁基溴、叔丁基溴、正戊基溴、仲戊基溴、异戊基溴、正辛基溴作为取代基的原料, 合成了七种歧化度、长度不同的八烷氧基取代的酞菁染料和三种四烷氧基取代的酞菁 染料,其中九种是撕拙合物。考虑到高歧化的烷氧基对于提高酞菁染料在有机溶剂中 的溶解度有利,本文设计合成了几种异构化和歧化的高级醇,二甲基一一戊醇, / , ,,三甲基一一戊醇,三乙基甲醇和相应的卤代烷。以其为取代基的原料,试图合 成新的八烷氧基取代的酞菁染料,但由于取代基位阻太大,未能成功。本文系统的研究 了烷氧基的长度、歧化度对酞菁染料熔点、热稳定性、溶解度、最大吸收波长摩尔 消光系数等基本性质的影响。 在酞菁染料实用化的过程中,为了调节酞菁染料的吸收波长与现行半导体激光波 长相匹配,我们采用了溴化的方法来微调酞菁染料的最大吸收波长。在研究中,我们 发现,酞菁染料一四正戊氧基钯酞菁溴化后,一些基本性质熔点、稳定性、 溶解度等也发生了相应变化。基于实验结果与分析数据,本文提出了可能的热失重 机理,并给予了分析与讨论。 关键词:酞菁染料,光记录,功能性染料中国科学技术大学硕士学位论文 高德涛 摘 要 ? , 、 . , , , , ,,,. ? . ., 。,, , , , .? ,. , 一一,,一一 . ,, , ?? ,,, ,. , .,中国科学技术大学硕士学位论文 高德涛 摘 要 ,. ,. : . , ,中国科学技术大学硕士学位论文 高德涛 第一章文献综述 第一章文献综述 . ? ?光盘染料发展概况? ..光盘的定义,特点及分类 光盘是继缩微技术始于年代和磁性存储介质始于年代之后由 公司己于年推出的一种崭新的信息存储系统。这种系统以其高密度,大容量,随 机存取和不易擦伤等优势而迅速发展起来。美国,德国,日本,荷兰和加拿大的一些 公司已开发出性能赶上和超过磁性材料的产品。光盘的分类有很多种,如按其工作方 式可分为只读式光盘存储系统,,一次写入光盘 ,或叫 ,和可擦重写光盘存储系统; 根据有机介质在激光作用下变化形式可分为可逆型和不可逆型。 ..光盘简要原理 光盘是利用激光写入和读出信息。激光照射后使微光斑区介质发生物理或化学变 化,从而使该微区的光学参数变化来记录信息。读出时用一束比写入激光弱的激光扫 描记录层,在信息微点的地方,光程差为/的两束激光发生干涉,变暗,几乎不反 射,反之则全反射,反射回来的激光经光电二极管检出点信号,将记录在光盘上的信 息还原为原来的模拟或数字信号。不可逆型记录中主要有形成洞或坑,形成气泡和颜 色等几种,可逆型记录中主要有表面变化,液晶相变和光致变色等几种形式。 ..光盘的结构及其材料 光盘可采用多种结构,但一般至少要有两部分组成,即支持基片和记录介质层。 根据对各种性能的不同要求,记录介质层的亚结构还可细分为记录层和其它组成部分 如:反射层,表面层,介电层,或保护层等,从而组成具有多功能的层结构。 单层结构:在基片上涂一层吸收激光的记录介质。主要适用于形成坑或洞的不可 逆记录,但不能满足信噪比的要求。 双层结构:先将铝或铋直接沉积在基片上,再把染料涂于铝或铋形成的反射层上。 三层结构:在反射层与记录层之间涂上一层介电层,可以在反射率低的盘面上记 录引起反射率升高的信息。 常用的可录光盘的结构为下图所示: ??里型兰垫查叁兰堡主堂垡堡兰 生竺堡 笙::兰坚竺堡 幽?司录光盘?的结构图 下面介绍各层的材料: 衬底层 衬底或基片是光记录介质的支承体,光盘机械强度的提供者,同时也对记录层有 一定的保护作用。目前实用的光盘衬底材料通常为光学玻璃如氧化铝硼硅酸盐玻璃, 铝片,聚碳酸脂和聚甲基丙烯酸甲酯,聚苯乙烯和聚氯乙烯 等。 隔热层 隔热层一般置于记录层和衬底层或反射层之间,其作用在于限制热量向衬底或反 射层散失,从而提高刻写灵敏度,也就可以降低激光刻写阈值功率。常用的材料有,。 密封层保护层 密封层的作用是防止对记录层的机械及化学损伤以及灰尘的玷污。目前常用的材 料有硫化硅橡胶。用旋转涂布法涂布。 反射层 为增强记录点与周围介质的反射率差异,常在衬底上增加一层金属铝膜以增加孔 洞的反射率。 ..光盘系统中的记录介质 早期的记录材料主要是无机介质,但由于其选材困难,造价昂贵,易受环境影响, 且又有毒性,因而一