不同遮荫处理对窄头橐吾Ligularia stenocephala影响.docVIP

不同遮荫处理对窄头橐吾(Ligularia stenocephala)影响 　　摘 要：本文以窄头橐吾为试验材料，从2007年3月至2007年5月对其进行了耐荫性观测及净光合速率等的测定，探讨在温室内不同的遮荫处理（全光照，55%，75%，95%）对其生长发育，光合特性的影响。试验结果表明，55%的的遮荫对窄头橐吾的生长发育最有利。在不同的遮荫处理下，窄头橐吾具有较低的光补偿点和较高的光饱和点，证明该植物是一种不仅具有较高的耐荫力而且又有一定喜阳性的野生地被植物，在园林应用中有很大的潜力。 　　关键词：窄头橐吾；耐荫性；净光合速率；光补偿点；光饱和点 　　 　　中图分类号：J522.3 文献标识码：A 文章编号： 　　窄头橐吾是一种多年生草本植物，茎直立，高40-80?，无毛。基生叶与茎下部叶的叶片心状戟形，稀箭形，长7-17?，宽6-20?，先端圆形而有突出的小尖头，基部宽心形，边缘具有不整齐锯齿，下方外展，有数个大齿，两面无毛，有时下面脉上有短毛，叶脉掌状，具长叶柄，中上部叶片较小，头状花序多数，排列呈总状，总花梗长1-7?。总苞狭筒形至宽筒形，直径2.5-4?，总苞片2层，长圆形，先端急尖，外面无毛，内层边缘膜；缘花舌状，黄色，1-4朵，舌片线状长圆形，雌性结实；盘花管状，5-10朵，两性，结实。瘦果倒披针形，有纵肋，无毛，冠毛污白色，短于花冠筒。花果期为6-9月[15]。窄头橐吾主要分布于河北、河南、山东、四川、山西、江苏、浙江、云南、贵州、台湾等省，日本也有分布。且窄头橐吾主要分布在海拔890-3100m处。窄头橐吾性喜荫蔽、凉爽、湿润的环境，多分布在山区腐殖土层深厚、土质疏松肥沃的阔叶林、针阔混交林下，或生于密集的灌木丛间，山沟底部稍湿润的地方及林缘地带。本文以浙江省临安市境内的天目山为试验点。试验结果表明，55%的的遮荫对窄头橐吾的生长发育最有利。在不同的遮荫处理下，窄头橐吾具有较低的光补偿点和较高的光饱和点，证明该植物是一种不仅具有较高的耐荫力而且又有一定喜阳性的野生地被植物，在园林应用中有很大的潜力。 　　 　　一、不同遮荫处理对窄头橐吾生长发育的影响 　　（一）不同遮荫处理对窄头橐吾植株高度的影响 　　当对植物进行遮荫时，植物就会进行适度的自我调节，在植株高度上主要表现为植株长高不长粗[17]。本试验研究结果如表5-1所示与研究理论相符合，随着遮光度的增加，株高也随之增高，且未出现黄化现象，表明植株并非徒长，是一种比较耐荫的植物。 　　（二）不同遮荫处理对窄头橐吾叶片数的影响 　　如表5-1所示，适度的遮荫有利于植物叶片数的增长，在55%的遮荫度下，窄头橐吾的叶片数增长量最大，但在95%的遮荫度下，叶片数增长量相对较差的。 　　（三） 不同遮荫处理对窄头橐吾叶片长度与宽度的影响 　　耐荫植物对低光量子密度环境的适应，首先表现在形态构建上：侧枝、叶片向水平方向分布，扩大与光量子的有效接触面积，提高对散射光、漫射光的吸收[18]。试验证明，窄头橐吾也符合此生长规律，如表5-1所示，在55%遮荫处理下的叶片长度与宽度的增长量比较大。但并不是越遮 　　荫越好，在95%遮荫处理下表现出相对抑制的现象。 　　表5-1 不同遮荫处理对各项生长指标的影响表 　　 　　 　　注 (1)测定样株每处理10盆；（2）植株的高度，叶片长度及宽度均采用5月15日统计的数据，叶片增长数=5月15日统计的数据―移栽时统计的叶片数；（3）各数据均为平均值±标准偏差。(4)小写字母表示不同遮光处理P=0.05水平下多重比较的结果。 　　（四） 显著性分析 　　表5-2 各生长指标的方差分析表 　　 　　 　　 　　注 (1)A处理为不同遮荫处理(全光照,55%,75%,95%)；(2)当FF0.01时为特别显著即用**表示；当F0.05全光照75%95%。但四组处理的光补偿点比较接近，且光补偿点在40(μmol?m-2?s-1)―80(μmol?m-2?s-1)的范围内[17]，说明窄头橐吾的光补偿点较低，且遮荫对光补偿点的影响并不是很大。 　　（二）光饱和点（LSP） 　　光饱和点是除光补偿点外的又一个反映植物光-光响应曲线及植物耐荫能力的一个指标。达到光饱和点，表明植物已经进入最大光合作用阶段，光饱和点的高低，直接反映出植物对光能利用效率的不同。本试验研究表明光饱和点随着遮荫度的增强而降低，如表5-4所示，在不同遮荫处理下的光饱和点都大于850(μmol?m-2?s-1)[17]，说明窄头橐吾具有较高的补偿点。 　　表5-4 光饱和点（LSP）表 　　 　　 　　（三） 净光合速率(Pn) 　　1、最大净光合速率(Pmax) 　　如图5-1至5-5所示，不同遮荫处理下的植物，它们都是随着光合有效辐射的增大，净光合速率也随着增大，但到了