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课程设计参考报告——提高光学光刻分辨率的方法研究（精）
微电子工艺课程设计
提供光学光刻分辨率的方法研究
目录
TOC \o "1-4" \h \z \u HYPERLINK \l "_Toc327539637" 摘要 PAGEREF _Toc327539637 \h 5
HYPERLINK \l "_Toc327539638" 关键词 PAGEREF _Toc327539638 \h 5
HYPERLINK \l "_Toc327539639" 引言 PAGEREF _Toc327539639 \h 5
HYPERLINK \l "_Toc327539640" 正文 PAGEREF _Toc327539640 \h 6
HYPERLINK \l "_Toc327539641" 一、 提高分辨率的方法 PAGEREF _Toc327539641 \h 6
HYPERLINK \l "_Toc327539642" 1. 影响图形光刻分辨率的主要因素 PAGEREF _Toc327539642 \h 6
HYPERLINK \l "_Toc327539643" 1.1掩膜（Mask） PAGEREF _Toc327539643 \h 6
HYPERLINK \l "_Toc327539644" 1.2 照明系统（Illumination system） PAGEREF _Toc327539644 \h 7
HYPERLINK \l "_Toc327539645" 1.3 投影（Projection） PAGEREF _Toc327539645 \h 7
HYPERLINK \l "_Toc327539646" 1.4发射和过滤特性 PAGEREF _Toc327539646 \h 8
HYPERLINK \l "_Toc327539647" 1.5成像(Image) PAGEREF _Toc327539647 \h 9
HYPERLINK \l "_Toc327539648" 1.6曝光（Expose） PAGEREF _Toc327539648 \h 10
HYPERLINK \l "_Toc327539649" 1.7烘烤（Bake） PAGEREF _Toc327539649 \h 11
HYPERLINK \l "_Toc327539650" 1.8显影（Develop） PAGEREF _Toc327539650 \h 11
HYPERLINK \l "_Toc327539651" 1.9一些效应的影响 PAGEREF _Toc327539651 \h 12
HYPERLINK \l "_Toc327539652" 2. 提高分辨率的措施 PAGEREF _Toc327539652 \h 14
HYPERLINK \l "_Toc327539653" 2.1掩膜 PAGEREF _Toc327539653 \h 14
HYPERLINK \l "_Toc327539654" 2.2照明系统 PAGEREF _Toc327539654 \h 15
HYPERLINK \l "_Toc327539655" 2.3投影（Projection） PAGEREF _Toc327539655 \h 16
HYPERLINK \l "_Toc327539656" 2.4发射和过滤特性 PAGEREF _Toc327539656 \h 17
HYPERLINK \l "_Toc327539657" 2.5成像（Image） PAGEREF _Toc327539657 \h 18
HYPERLINK \l "_Toc327539658" 2.6曝光（Expose） PAGEREF _Toc327539658 \h 18
HYPERLINK \l "_Toc327539659" 2.7烘烤（Bake） PAGEREF _Toc327539659 \h 19
HYPERLINK \l "_Toc327539660" 2.8显影（Develop） PAGEREF _Toc327539660 \h 20
HYPERLINK \l "_Toc327539661" 2.9一些常见且有效的技术 PAGEREF _Toc327539661 \h 22
HYPERLINK \l "_Toc327539662" 2.10采用先进的光刻技术 PAGEREF _Toc327539662 \h 28
HYPERLINK \l "_Toc327539663" 二、 一个优化的工艺组合方案的各参数的确定 PAGEREF _Toc327539663 \h 31
HYPERLINK \l "_Toc3275396
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