压电陶瓷微位移机械装置研究.PDF

维普资讯 一 94一 《机械设计与制造》 Apr．2004 No．2 Machinery Design ＆ Manufacture 文章编号 ：1001—3997(2004)02—0094—02 压电陶瓷微位移机械装置的研究★ 何 勇 吴 栋 吴子明 姬会东 (南京理工大学电光学院，南京 210094) 摘【要】参考反射镜的位移标定，在很大程度上决定了移相干涉仪的测量精度 ．根据移相干涉的 要求和压电陶瓷的特点，设计了推动参考反射镜作微位移的机械装置，通过实验测量出其微位移量 表 明，设计的装置使反射镜移相的非线性为 1．73％。 关键词 移相法 ；干涉仪 ；微位移装置 中图分类号 ：TH16 文献标识码 ：C 1引言 干涉场光强表达式为： 近 20年来，移相干涉技术 P【haseShiftingInterferomeny]【1l ，f．Y，ZJ=0+b+2abCOS2 【f，yJ—l】 (1) 即干涉场中每一点的光强都是 l的正弦函数，当PZT驱动 被广泛用于各种现代干涉仪器中，它的测试精度高，是光学高 参考反射镜 7改变 l(即光程差)，干涉场 的光强 ，就被调制。当 精度计量测试 的有效方法。电致伸缩微位移器 (压 电陶瓷)既能 参考镜匀速平移时，在一定时间内，CCD接收到的光强值 ，实 实现大位移，也能实现纳米尺度小位移的精密定位 f2l。由压 电 际代表 了该点在 li±A／2范围内光强的积分平均值 ，即有 ： 陶瓷堆及其机构构成的移相器是移相干涉仪中的主要部件，其 1i 目的是推动参考反射镜作线性移动，参考反射镜位移误差是影 ． ，( ，l)=—1 f，(，y，l)dl (2) 响移相干涉仪波面复原精度的重要因素之一。在实际测试中， ： 要求压电陶瓷堆随施加 电压做线性位移，压电陶瓷堆本身位移 式中，1／ 是归一化因子，将 (1)代人 (2)，积分得： 非线性 ，那么就需要对其位移量进行测量并对非线性进行校 ，(，1，，)=~22+b+2ab·sinc(—)cos2[(，，)一，： (3) 正，在这方面我们 已经做 了大量 的工作 ，并取得了成效 I3l；另 一 为降低噪声影响，提高测量准确度 ，采用四步平均法得复 方面，移相器的结构对微位移 的线性有着较大的影响，这里 原波面相位 ： 设计了一套结构，实验表明，该结构对移相器的位移能线性传 递给参考反射镜 ． =丽1告2M 丽1眚2M [鲁 ] (4) 2移相技术对微位移的要求 就可求得波前畸变函数 (，Y)= 。对移相器的最终要 图l是移相干涉光路原理示意图，图中1．激光器 ；2．反射 镜；3．直流 电机；4．滤光片 ；5．扩柬镜；6．准直物镜；7．参考 求是在实际应用中，每步进一次 ，相位移为 ／2，对应的位移为 反射镜 ；8．PZT；9．测试镜 ；10．分光镜 ；11．成